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Literatura académica sobre el tema "TaAlN coating"

Autor: Grafiati
Publicado: 14 de marzo de 2023

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Artículos de revistas sobre el tema "TaAlN coating"

1

Koller, C. M., R. Hollerweger, C. Sabitzer, R. Rachbauer, S. Kolozsvári, J. Paulitsch y P. H. Mayrhofer. "Thermal stability and oxidation resistance of arc evaporated TiAlN, TaAlN, TiAlTaN, and TiAlN/TaAlN coatings". Surface and Coatings Technology 259 (noviembre de 2014): 599–607. http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2014.10.024.

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2

Kumar, D. Dinesh, Revati Rani, Niranjan Kumar, Kalpataru Panda, A. M. Kamalan Kirubaharan, P. Kuppusami y R. Baskaran. "Tribochemistry of TaN, TiAlN and TaAlN coatings under ambient atmosphere and high-vacuum sliding conditions". Applied Surface Science 499 (enero de 2020): 143989. http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2019.143989.

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3

OKANO, Yukiko, Shuichi TAJIRI, Takashi AOZONO, Akio OKAMOTO, Soichi OGAWA y Hiroshi MIMA. "Fabrication of High TCR TaAl-N Thin Film by Reactive Sputtering Method". Shinku 50, n.º 3 (2007): 173–74. http://dx.doi.org/10.3131/jvsj.50.173.

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4

Schalk, Nina, Christian Saringer, Alexander Fian, Velislava L. Terziyska, Jaakko Julin y Michael Tkadletz. "Evolution of the microstructure of sputter deposited TaAlON thin films with increasing oxygen partial pressure". Surface and Coatings Technology 418 (julio de 2021): 127237. http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2021.127237.

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5

Coss, Brian, Hyun-Chul Kim, Francisco S. Aguirre-Tostado, Robert M. Wallace y Jiyoung Kim. "Role of lanthanum in the gate stack: Co-sputtered TaLaN metal gates on Hf-based dielectrics". Microelectronic Engineering 86, n.º 3 (marzo de 2009): 235–39. http://dx.doi.org/10.1016/j.mee.2008.05.027.

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6

OKANO, Yukiko, Shuichi TAJIRI, Takashi AOZONO, Akio OKAMOTO, Soichi OGAWA y Hiroshi MIMA. "Deposition of TaAl-N Thin Film on the Polyimide Film-Discussion for the New Vacuum Sensor in a Wide Range-". Shinku 49, n.º 3 (2006): 162–64. http://dx.doi.org/10.3131/jvsj.49.162.

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