Artículos de revistas sobre el tema "Polymer Charge Trapping Memory"
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Prime, D., S. Paul y P. W. Josephs-Franks. "Gold nanoparticle charge trapping and relation to organic polymer memory devices". Philosophical Transactions of the Royal Society A: Mathematical, Physical and Engineering Sciences 367, n.º 1905 (28 de octubre de 2009): 4215–25. http://dx.doi.org/10.1098/rsta.2009.0141.
Texto completoCasalbore-Miceli, Giuseppe, Nadia Camaioni, Alessandro Geri, Giovanni Ridolfi, Alberto Zanelli, Maria C. Gallazzi, Michele Maggini y Tiziana Benincori. "“Solid state charge trapping”: Examples of polymer systems showing memory effect". Journal of Electroanalytical Chemistry 603, n.º 2 (mayo de 2007): 227–34. http://dx.doi.org/10.1016/j.jelechem.2007.02.007.
Texto completoMurari, Nishit M., Ye-Jin Hwang, Felix Sunjoo Kim y Samson A. Jenekhe. "Organic nonvolatile memory devices utilizing intrinsic charge-trapping phenomena in an n-type polymer semiconductor". Organic Electronics 31 (abril de 2016): 104–10. http://dx.doi.org/10.1016/j.orgel.2016.01.015.
Texto completoRajeev, V. R. y K. N. Narayanan Unni. "Polymer electret-based organic field-effect transistor memory with a solution-processable bilayer (PαMS/ cross-linked PVP) gate dielectric". European Physical Journal Applied Physics 97 (2022): 17. http://dx.doi.org/10.1051/epjap/2022210175.
Texto completoWu, Chao, Yongping Dan, Wei Wang, Xiangyang Lu y Xinqiang Wang. "Solution processed nonvolatile polymer transistor memory with discrete distributing molecular semiconductor microdomains as the charge trapping sites". Semiconductor Science and Technology 33, n.º 9 (30 de julio de 2018): 095003. http://dx.doi.org/10.1088/1361-6641/aad2b9.
Texto completoHe, Dongwei, Hao Zhuang, Haifeng Liu, Hongzhang Liu, Hua Li y Jianmei Lu. "Adjustment of conformation change and charge trapping in ion-doped polymers to achieve ternary memory performance". Journal of Materials Chemistry C 1, n.º 47 (2013): 7883. http://dx.doi.org/10.1039/c3tc31759e.
Texto completoBaeg, Kang-Jun, Yong-Young Noh y Dong-Yu Kim. "Charge transfer and trapping properties in polymer gate dielectrics for non-volatile organic field-effect transistor memory applications". Solid-State Electronics 53, n.º 11 (noviembre de 2009): 1165–68. http://dx.doi.org/10.1016/j.sse.2009.07.003.
Texto completoLing, Haifeng, Wen Li, Huanqun Li, Mingdong Yi, Linghai Xie, Laiyuan Wang, Yangxing Ma, Yan Bao, Fengning Guo y Wei Huang. "Effect of thickness of polymer electret on charge trapping properties of pentacene-based nonvolatile field-effect transistor memory". Organic Electronics 43 (abril de 2017): 222–28. http://dx.doi.org/10.1016/j.orgel.2017.01.017.
Texto completoZhang, Bo, Qihang Gao, Boping Wang, Hong Wang, Chao Lu, Jiashu Gao, Rui Zhao y Xiaobing Yan. "Effects of oxygen conditions during deposition on memory performance of metal/HfO2/SiO2/Si structured charge trapping memory". Materials Research Express 6, n.º 8 (10 de mayo de 2019): 086306. http://dx.doi.org/10.1088/2053-1591/ab1df0.
Texto completoWang, Wei, Sun Kak Hwang, Kang Lib Kim, Ju Han Lee, Suk Man Cho y Cheolmin Park. "Highly Reliable Top-Gated Thin-Film Transistor Memory with Semiconducting, Tunneling, Charge-Trapping, and Blocking Layers All of Flexible Polymers". ACS Applied Materials & Interfaces 7, n.º 20 (15 de mayo de 2015): 10957–65. http://dx.doi.org/10.1021/acsami.5b02213.
Texto completoLorenzi, Paolo, Rosario Rao, Gabriella Ghidini, Fabrizio Palma y Fernanda Irrera. "Charge Trapping Non Volatile Memory". ECS Transactions 25, n.º 7 (17 de diciembre de 2019): 269–76. http://dx.doi.org/10.1149/1.3203965.
Texto completoCampbell, Alasdair J., Donal D. C. Bradley y David G. Lidzey. "Charge trapping in polymer diodes". Optical Materials 9, n.º 1-4 (enero de 1998): 114–19. http://dx.doi.org/10.1016/s0925-3467(97)00145-6.
Texto completoEl-Atab, Nazek, Ayse Ozcan, Sabri Alkis, Ali K. Okyay y Ammar Nayfeh. "Silicon nanoparticle charge trapping memory cell". physica status solidi (RRL) - Rapid Research Letters 8, n.º 7 (12 de mayo de 2014): 629–33. http://dx.doi.org/10.1002/pssr.201409157.
Texto completoPing-Hung Tsai, Kuei-Shu Chang-Liao, Te-Chiang Liu, Tien-Ko Wang, Pei-Jer Tzeng, Cha-Hsin Lin, L. S. Lee y Ming-Jinn Tsai. "Charge-Trapping-Type Flash Memory Device With Stacked High-$k$ Charge-Trapping Layer". IEEE Electron Device Letters 30, n.º 7 (julio de 2009): 775–77. http://dx.doi.org/10.1109/led.2009.2022287.
Texto completoMeng, Jianling, Rong Yang, Jing Zhao, Congli He, Guole Wang, Dongxia Shi y Guangyu Zhang. "Nanographene charge trapping memory with a large memory window". Nanotechnology 26, n.º 45 (22 de octubre de 2015): 455704. http://dx.doi.org/10.1088/0957-4484/26/45/455704.
Texto completoSpassov, Dencho, Albena Paskaleva, Elżbieta Guziewicz, Wojciech Wozniak, Todor Stanchev, Tsvetan Ivanov, Joanna Wojewoda-Budka y Marta Janusz-Skuza. "Charge Storage and Reliability Characteristics of Nonvolatile Memory Capacitors with HfO2/Al2O3-Based Charge Trapping Layers". Materials 15, n.º 18 (9 de septiembre de 2022): 6285. http://dx.doi.org/10.3390/ma15186285.
Texto completoFukuda, M., T. Nakanishi y Y. Nara. "New nonvolatile memory with charge-trapping sidewall". IEEE Electron Device Letters 24, n.º 7 (julio de 2003): 490–92. http://dx.doi.org/10.1109/led.2003.815002.
Texto completoLiu, Jinqiu, Jianxin Lu, Bo Xu, Yidong Xia, Jiang Yin y Zhiguo Liu. "Al2O3–Cu2O composite charge-trapping nonvolatile memory". Journal of Materials Science: Materials in Electronics 28, n.º 1 (25 de agosto de 2016): 928–33. http://dx.doi.org/10.1007/s10854-016-5609-8.
Texto completoSpassov, Dencho y Albena Paskaleva. "Challenges to Optimize Charge Trapping Non-Volatile Flash Memory Cells: A Case Study of HfO2/Al2O3 Nanolaminated Stacks". Nanomaterials 13, n.º 17 (30 de agosto de 2023): 2456. http://dx.doi.org/10.3390/nano13172456.
Texto completoShen, Yuxin, Zhaohao Zhang, Qingzhu Zhang, Feng Wei, Huaxiang Yin, Qianhui Wei y Kuo Men. "A Gd-doped HfO2 single film for a charge trapping memory device with a large memory window under a low voltage". RSC Advances 10, n.º 13 (2020): 7812–16. http://dx.doi.org/10.1039/d0ra00034e.
Texto completoLIU, JING y HAI-BO ZHANG. "SELF-CONSIST CHARGING PROCESS OF POLYMER IRRADIATED BY INTERMEDIATE-ENERGY ELECTRON BEAM". Surface Review and Letters 21, n.º 05 (29 de septiembre de 2014): 1450062. http://dx.doi.org/10.1142/s0218625x14500620.
Texto completoEl-Atab, Nazek, Irfan Saadat, Krishna Saraswat y Ammar Nayfeh. "Nanoislands-Based Charge Trapping Memory: A Scalability Study". IEEE Transactions on Nanotechnology 16, n.º 6 (noviembre de 2017): 1143–46. http://dx.doi.org/10.1109/tnano.2017.2764745.
Texto completoLiu, Y., T. Nabatame, T. Matsukawa, K. Endo, S. O'uchi, J. Tsukada, H. Yamauchi et al. "(Invited) Charge Trapping Type SOI-FinFET Flash Memory". ECS Transactions 61, n.º 2 (24 de marzo de 2014): 263–80. http://dx.doi.org/10.1149/06102.0263ecst.
Texto completoMalliaras, G. G., V. V. Krasnikov, H. J. Bolink y G. Hadziioannou. "Control of charge trapping in a photorefractive polymer". Applied Physics Letters 66, n.º 9 (27 de febrero de 1995): 1038–40. http://dx.doi.org/10.1063/1.114230.
Texto completoGong, Changjie, Xin Ou, Bo Xu, Xuexin Lan, Yan Lei, Jianxin Lu, Yan Chen et al. "Enhanced charge storage performance in AlTi4Ox/Al2O3multilayer charge trapping memory devices". Japanese Journal of Applied Physics 53, n.º 8S3 (7 de julio de 2014): 08NG02. http://dx.doi.org/10.7567/jjap.53.08ng02.
Texto completoSpecht, M., H. Reisinger, F. Hofmann, T. Schulz, E. Landgraf, R. J. Luyken, W. Rösner, M. Grieb y L. Risch. "Charge trapping memory structures with Al2O3 trapping dielectric for high-temperature applications". Solid-State Electronics 49, n.º 5 (mayo de 2005): 716–20. http://dx.doi.org/10.1016/j.sse.2004.09.003.
Texto completoChoi, Sangmoo, Myungjun Cho, Chandan B. Samantaray, Sanghun Jeon, Chungwoo Kim y Hyunsang Hwang. "Improved Charge-Trapping Nonvolatile Memory with Dy-doped HfO2as Charge-Trapping Layer and Al2O3as Blocking Layer". Japanese Journal of Applied Physics 43, No. 7A (18 de junio de 2004): L882—L884. http://dx.doi.org/10.1143/jjap.43.l882.
Texto completoJin, Rui, Xiaoyan Liu, Gang Du, Jinfeng Kang y Ruqi Han. "Effect of trapped charge accumulation on the retention of charge trapping memory". Journal of Semiconductors 31, n.º 12 (diciembre de 2010): 124016. http://dx.doi.org/10.1088/1674-4926/31/12/124016.
Texto completoEl-Atab, Nazek, Ayman Rizk, Ali K. Okyay y Ammar Nayfeh. "Zinc-oxide charge trapping memory cell with ultra-thin chromium-oxide trapping layer". AIP Advances 3, n.º 11 (noviembre de 2013): 112116. http://dx.doi.org/10.1063/1.4832237.
Texto completoWang Jia-Yu, Dai Yue-Hua, Zhao Yuan-Yang, Xu Jian-Bin, Yang Fei, Dai Guang-Zhen y Yang Jin. "Research on charge trapping memory’s over erase". Acta Physica Sinica 63, n.º 20 (2014): 203101. http://dx.doi.org/10.7498/aps.63.203101.
Texto completoHuang, X. y P. T. Lai. "HfTiON as Charge-Trapping Layer for Nonvolatile Memory Applications". ECS Transactions 45, n.º 3 (27 de abril de 2012): 355–60. http://dx.doi.org/10.1149/1.3700900.
Texto completoSpecht, M., R. Kommling, F. Hofmann, V. Klandzievski, L. Dreeskornfeld, W. Weber, J. Kretz et al. "Novel Dual Bit Tri-Gate Charge Trapping Memory Devices". IEEE Electron Device Letters 25, n.º 12 (diciembre de 2004): 810–12. http://dx.doi.org/10.1109/led.2004.838621.
Texto completoHuang, X. D., Johnny K. O. Sin y P. T. Lai. "BaTiO3 as charge-trapping layer for nonvolatile memory applications". Solid-State Electronics 79 (enero de 2013): 285–89. http://dx.doi.org/10.1016/j.sse.2012.09.005.
Texto completoKang, Sung Hoon, Todd Crisp, Ioannis Kymissis y Vladimir Bulović. "Memory effect from charge trapping in layered organic structures". Applied Physics Letters 85, n.º 20 (15 de noviembre de 2004): 4666–68. http://dx.doi.org/10.1063/1.1819991.
Texto completoTang, Zhenjie, Dongqiu Zhao, Rong Li y Xinhua Zhu. "Improved Memory Characteristics by NH3Post Annealing for ZrO2Based Charge Trapping Nonvolatile Memory". Transactions on Electrical and Electronic Materials 15, n.º 1 (25 de febrero de 2014): 16–19. http://dx.doi.org/10.4313/teem.2014.15.1.16.
Texto completoKunz, A., P. W. M. Blom y J. J. Michels. "Charge carrier trapping controlled by polymer blend phase dynamics". Journal of Materials Chemistry C 5, n.º 12 (2017): 3042–48. http://dx.doi.org/10.1039/c6tc05065d.
Texto completoWang, Jer, Chyuan Kao, Chien Wu, Chun Lin y Chih Lin. "Nb2O5 and Ti-Doped Nb2O5 Charge Trapping Nano-Layers Applied in Flash Memory". Nanomaterials 8, n.º 10 (8 de octubre de 2018): 799. http://dx.doi.org/10.3390/nano8100799.
Texto completoKobayashi, Kiyoteru y Hiroshi Mino. "Hole trapping capability of silicon carbonitride charge trap layers". European Physical Journal Applied Physics 91, n.º 1 (julio de 2020): 10101. http://dx.doi.org/10.1051/epjap/2020190297.
Texto completoShih, Wen-Chieh, Chih-Hao Cheng, Joseph Ya-min Lee y Fu-Chien Chiu. "Charge-Trapping Devices Using Multilayered Dielectrics for Nonvolatile Memory Applications". Advances in Materials Science and Engineering 2013 (2013): 1–5. http://dx.doi.org/10.1155/2013/548329.
Texto completoYoo, Jae-Hoon, Won-Ji Park, So-Won Kim, Ga-Ram Lee, Jong-Hwan Kim, Joung-Ho Lee, Sae-Hoon Uhm y Hee-Chul Lee. "Preparation of Remote Plasma Atomic Layer-Deposited HfO2 Thin Films with High Charge Trapping Densities and Their Application in Nonvolatile Memory Devices". Nanomaterials 13, n.º 11 (1 de junio de 2023): 1785. http://dx.doi.org/10.3390/nano13111785.
Texto completoKurtash, Vladislav, Sebastian Thiele, Sobin Mathew, Heiko O. Jacobs y Joerg Pezoldt. "Designing MoS2 channel properties for analog memory in neuromorphic applications". Journal of Vacuum Science & Technology B 40, n.º 3 (mayo de 2022): 030602. http://dx.doi.org/10.1116/6.0001815.
Texto completoZhu, Hao, John E. Bonevich, Haitao Li, Curt A. Richter, Hui Yuan, Oleg Kirillov y Qiliang Li. "Discrete charge states in nanowire flash memory with multiple Ta2O5 charge-trapping stacks". Applied Physics Letters 104, n.º 23 (9 de junio de 2014): 233504. http://dx.doi.org/10.1063/1.4883717.
Texto completoYang, Tao, Hong Wang, Bo Zhang y Xiaobing Yan. "Enhanced memory characteristics of charge trapping memory by employing graphene oxide quantum dots". Applied Physics Letters 116, n.º 10 (9 de marzo de 2020): 103501. http://dx.doi.org/10.1063/1.5135623.
Texto completoHuang, X. D., P. T. Lai, L. Liu y J. P. Xu. "Nitrided SrTiO3 as charge-trapping layer for nonvolatile memory applications". Applied Physics Letters 98, n.º 24 (13 de junio de 2011): 242905. http://dx.doi.org/10.1063/1.3601473.
Texto completoJi, Yongsung, Minhyeok Choe, Byungjin Cho, Sunghoon Song, Jongwon Yoon, Heung Cho Ko y Takhee Lee. "Organic nonvolatile memory devices with charge trapping multilayer graphene film". Nanotechnology 23, n.º 10 (24 de febrero de 2012): 105202. http://dx.doi.org/10.1088/0957-4484/23/10/105202.
Texto completoHuang, X. D., P. T. Lai y J. K. O. Sin. "Charge-Trapping Characteristics of Ga2O3 Nanocrystals for Nonvolatile Memory Applications". ECS Solid State Letters 1, n.º 5 (10 de septiembre de 2012): Q45—Q47. http://dx.doi.org/10.1149/2.005206ssl.
Texto completoYun-Cheng, Song, Liu Xiao-Yan, Du Gang, Kang Jin-Feng y Han Ru-Qi. "Carriers recombination processes in charge trapping memory cell by simulation". Chinese Physics B 17, n.º 7 (julio de 2008): 2678–82. http://dx.doi.org/10.1088/1674-1056/17/7/053.
Texto completoPadovani, A., L. Larcher, D. Heh y G. Bersuker. "Modeling TANOS Memory Program Transients to Investigate Charge-Trapping Dynamics". IEEE Electron Device Letters 30, n.º 8 (agosto de 2009): 882–84. http://dx.doi.org/10.1109/led.2009.2024622.
Texto completoZhu, Hao, Christina A. Hacker, Sujitra J. Pookpanratana, Curt A. Richter, Hui Yuan, Haitao Li, Oleg Kirillov, Dimitris E. Ioannou y Qiliang Li. "Non-volatile memory with self-assembled ferrocene charge trapping layer". Applied Physics Letters 103, n.º 5 (29 de julio de 2013): 053102. http://dx.doi.org/10.1063/1.4817009.
Texto completoMondal, Sandip y V. Venkataraman. "All inorganic solution processed three terminal charge trapping memory device". Applied Physics Letters 114, n.º 17 (29 de abril de 2019): 173502. http://dx.doi.org/10.1063/1.5089743.
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