Artículos de revistas sobre el tema "PECVD silicon carbide and silicon nitride"
Crea una cita precisa en los estilos APA, MLA, Chicago, Harvard y otros
Consulte los 50 mejores artículos de revistas para su investigación sobre el tema "PECVD silicon carbide and silicon nitride".
Junto a cada fuente en la lista de referencias hay un botón "Agregar a la bibliografía". Pulsa este botón, y generaremos automáticamente la referencia bibliográfica para la obra elegida en el estilo de cita que necesites: APA, MLA, Harvard, Vancouver, Chicago, etc.
También puede descargar el texto completo de la publicación académica en formato pdf y leer en línea su resumen siempre que esté disponible en los metadatos.
Explore artículos de revistas sobre una amplia variedad de disciplinas y organice su bibliografía correctamente.
ILIESCU, Ciprian. "A COMPREHENSIVE REVIEW ON THIN FILM DEPOSITIONS ON PECVD REACTORS". Annals of the Academy of Romanian Scientists Series on Science and Technology of Information 14, n.º 1-2 (2021): 12–24. http://dx.doi.org/10.56082/annalsarsciinfo.2021.1-2.12.
Texto completoCho, Eun-Chel, Martin A. Green, Gavin Conibeer, Dengyuan Song, Young-Hyun Cho, Giuseppe Scardera, Shujuan Huang et al. "Silicon Quantum Dots in a Dielectric Matrix for All-Silicon Tandem Solar Cells". Advances in OptoElectronics 2007 (28 de agosto de 2007): 1–11. http://dx.doi.org/10.1155/2007/69578.
Texto completoAbdelal, Aysegul y Peter Mascher. "(Invited) Comparison of Compositional, Optical and Mechanical Properties of Sicn Thin Films Prepared By Ecr-PECVD with Different Hydrocarbon Precursors". ECS Meeting Abstracts MA2022-02, n.º 18 (9 de octubre de 2022): 874. http://dx.doi.org/10.1149/ma2022-0218874mtgabs.
Texto completoFang, Kun, Rui Zhang, Tami Isaacs-Smith, R. Wayne Johnson, Emad Andarawis y Alexey Vert. "Thin Film Multichip Packaging for High Temperature Digital Electronics". Additional Conferences (Device Packaging, HiTEC, HiTEN, and CICMT) 2011, HITEN (1 de enero de 2011): 000039–45. http://dx.doi.org/10.4071/hiten-paper1-rwjohnson.
Texto completoGalvão, Nierlly, Marciel Guerino, Tiago Campos, Korneli Grigorov, Mariana Fraga, Bruno Rodrigues, Rodrigo Pessoa, Julien Camus, Mohammed Djouadi y Homero Maciel. "The Influence of AlN Intermediate Layer on the Structural and Chemical Properties of SiC Thin Films Produced by High-Power Impulse Magnetron Sputtering". Micromachines 10, n.º 3 (22 de marzo de 2019): 202. http://dx.doi.org/10.3390/mi10030202.
Texto completoKnowles, Kevin M. y Servet Turan. "Boron nitride–silicon carbide interphase boundaries in silicon nitride–silicon carbide particulate composites". Journal of the European Ceramic Society 22, n.º 9-10 (septiembre de 2002): 1587–600. http://dx.doi.org/10.1016/s0955-2219(01)00481-2.
Texto completoBiasini, V., S. Guicciardi y A. Bellosi. "Silicon nitride-silicon carbide composite materials". International Journal of Refractory Metals and Hard Materials 11, n.º 4 (enero de 1992): 213–21. http://dx.doi.org/10.1016/0263-4368(92)90048-7.
Texto completoKodama, Hironori, Hiroshi Sakamoto y Tadahiko Miyoshi. "Silicon Carbide Monofilament-Reinforced Silicon Nitride or Silicon Carbide Matrix Composites". Journal of the American Ceramic Society 72, n.º 4 (abril de 1989): 551–58. http://dx.doi.org/10.1111/j.1151-2916.1989.tb06174.x.
Texto completoPruiti, Natale G., Charalambos Klitis, Christopher Gough, Stuart May y Marc Sorel. "Thermo-optic coefficient of PECVD silicon-rich silicon nitride". Optics Letters 45, n.º 22 (12 de noviembre de 2020): 6242. http://dx.doi.org/10.1364/ol.403357.
Texto completoGreim, J., A. Lipp y K. Bettles. "Silicon Nitride and Silicon Carbide Turbocharger Rotors". Materials Science Forum 34-36 (enero de 1991): 623–27. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.34-36.623.
Texto completoBaril, D., S. P. Tremblay y M. Fiset. "Silicon carbide platelet-reinforced silicon nitride composites". Journal of Materials Science 28, n.º 20 (octubre de 1993): 5486–94. http://dx.doi.org/10.1007/bf00367819.
Texto completoLiu, Bangwu, Sihua Zhong, Jinhu Liu, Yang Xia y Chaobo Li. "Silicon Nitride Film by Inline PECVD for Black Silicon Solar Cells". International Journal of Photoenergy 2012 (2012): 1–5. http://dx.doi.org/10.1155/2012/971093.
Texto completoHuran, J., B. Zaťko, I. Hotový, J. Pezoldt, A. P. Kobzev y N. I. Balalykin. "PECVD silicon carbide deposited at different temperature". Czechoslovak Journal of Physics 56, S2 (octubre de 2006): B1207—B1211. http://dx.doi.org/10.1007/s10582-006-0351-8.
Texto completoJusto, João F. y Cesar R. S. da Silva. "Modelling Amorphous Materials: Silicon Nitride and Silicon Carbide". Defect and Diffusion Forum 206-207 (julio de 2002): 19–30. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ddf.206-207.19.
Texto completoTakakura, Eiju y Susumu Horibe. "Indentation Fatigue of Silicon Carbide and Silicon Nitride". Journal of the Japan Institute of Metals 54, n.º 5 (1990): 611–16. http://dx.doi.org/10.2320/jinstmet1952.54.5_611.
Texto completoTakakura, Eiju y Susumu Horibe. "Indentation Fatigue of Silicon Carbide and Silicon Nitride". Materials Transactions, JIM 32, n.º 5 (1991): 495–500. http://dx.doi.org/10.2320/matertrans1989.32.495.
Texto completoMunro, R. G. y S. J. Dapkunas. "Corrosion characteristics of silicon carbide and silicon nitride". Journal of Research of the National Institute of Standards and Technology 98, n.º 5 (septiembre de 1993): 607. http://dx.doi.org/10.6028/jres.098.040.
Texto completoLiang, Xin, Changlian Chen, Shicong Zhou, Man Xu, Jiayou Ji, Zhiliang Huang, Gangqiang Ding y Hongliang Zhang. "Silicon Carbide Films Prepared by Silicon Nitride Evaporation". IOP Conference Series: Materials Science and Engineering 678 (27 de noviembre de 2019): 012162. http://dx.doi.org/10.1088/1757-899x/678/1/012162.
Texto completoAgrafiotis, Christos C., Jerzy Lis, Jan A. Puszynski y Vladimir Hlavacek. "Combustion Synthesis of Silicon Nitride-Silicon Carbide Composites". Journal of the American Ceramic Society 73, n.º 11 (noviembre de 1990): 3514–17. http://dx.doi.org/10.1111/j.1151-2916.1990.tb06488.x.
Texto completoKargin, Yu F., S. N. Ivicheva, A. S. Lysenkov, N. A. Alad’ev, S. V. Kutsev y L. I. Shvorneva. "Preparation of silicon carbide whiskers from silicon nitride". Inorganic Materials 45, n.º 7 (28 de junio de 2009): 758–66. http://dx.doi.org/10.1134/s0020168509070103.
Texto completoWang, E. Y., X. Pan, J. P. Mansfield, T. Kennedy y S. Hampshire. "TEM Studies of Silicon Nitride-Silicon Carbide Nanocomposites". Microscopy and Microanalysis 3, S2 (agosto de 1997): 411–12. http://dx.doi.org/10.1017/s1431927600008941.
Texto completoEdwards, D. P., Barry C. Muddle y R. H. J. Hannink. "Microstructural Characterisation of Silicon Nitride-Bonded Silicon Carbide". Key Engineering Materials 89-91 (agosto de 1993): 417–22. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.89-91.417.
Texto completoKennedy, T., Stuart Hampshire, Marc Poorteman y F. Cambier. "Fabrication of Silicon Nitride-Silicon Carbide Nanocomposite Ceramics". Key Engineering Materials 99-100 (marzo de 1995): 257–64. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.99-100.257.
Texto completoReddy, N. Kishan. "Electrical behaviour of silicon nitride-silicon carbide composites". Journal of Materials Science Letters 9, n.º 12 (diciembre de 1990): 1393–94. http://dx.doi.org/10.1007/bf00721593.
Texto completoScheeper, P. R., J. A. Voorthuyzen y P. Bergveld. "PECVD silicon nitride diaphragms for condenser microphones". Sensors and Actuators B: Chemical 4, n.º 1-2 (mayo de 1991): 79–84. http://dx.doi.org/10.1016/0925-4005(91)80180-r.
Texto completoYong Zhong Hu, G. R. Yang, T. Paul Chow y Ronald J. Gutmann. "Chemical-mechanical polishing of PECVD silicon nitride". Thin Solid Films 290-291 (diciembre de 1996): 453–55. http://dx.doi.org/10.1016/s0040-6090(96)09032-3.
Texto completoLiu, Ze Wen, Tian Ruo Zhang, Li Tian Liu y Zhi Jian Li. "Realization of Silicon Nitride Template for Nanoimprint: A First Result". Solid State Phenomena 121-123 (marzo de 2007): 669–72. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.121-123.669.
Texto completoJones, Mark Ian, Ron Etzion, Jim Metson, You Zhou, Hideki Hyuga, Yuichi Yoshizawa y Kiyoshi Hirao. "Reaction Bonded Silicon Nitride - Silicon Carbide and SiAlON - Silicon Carbide Refractories for Aluminium Smelting". Key Engineering Materials 403 (diciembre de 2008): 235–38. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.403.235.
Texto completoZaytsev, S. V., E. A. Doroganov, V. A. Doroganov, E. I. Evtushenko y O. К. Sysa. "Silicon and silicon carbide-based artificial ceramic binders for nitride bonded silicon carbide refractories". NOVYE OGNEUPORY (NEW REFRACTORIES), n.º 9 (27 de octubre de 2019): 25–30. http://dx.doi.org/10.17073/1683-4518-2019-9-25-30.
Texto completoSun, Wenyue, Zhiliang Huang, Changlian Chen y Song Chen. "Preparation of Silicon Carbide Film by Composite Sintering of Silicon Nitride and Silicon Carbide". Journal of Physics: Conference Series 2390, n.º 1 (1 de diciembre de 2022): 012001. http://dx.doi.org/10.1088/1742-6596/2390/1/012001.
Texto completoKishore, R., S. N. Singh y B. K. Das. "PECVD grown silicon nitride AR coatings on polycrystalline silicon solar cells". Solar Energy Materials and Solar Cells 26, n.º 1-2 (marzo de 1992): 27–35. http://dx.doi.org/10.1016/0927-0248(92)90123-7.
Texto completoSong, Yumin, Jun-Kyo Jeong, Seung-Dong Yang, Deok-Min Park, Yun-mi Kang y Ga-Won Lee. "Process effect analysis on nitride trap distribution in silicon-oxide-nitride-oxide-silicon flash memory based on charge retention model". Materials Express 11, n.º 9 (1 de septiembre de 2021): 1615–18. http://dx.doi.org/10.1166/mex.2021.2067.
Texto completoMeziani, Samir, Abderrahmane Moussi, Linda Mahiou y Ratiba Outemzabet. "Compositional analysis of silicon oxide/silicon nitride thin films". Materials Science-Poland 34, n.º 2 (1 de junio de 2016): 315–21. http://dx.doi.org/10.1515/msp-2016-0057.
Texto completoIliescu, Ciprian, Bangtao Chen, Daniel P. Poenar y Yong Yeow Lee. "PECVD amorphous silicon carbide membranes for cell culturing". Sensors and Actuators B: Chemical 129, n.º 1 (enero de 2008): 404–11. http://dx.doi.org/10.1016/j.snb.2007.08.043.
Texto completoMitomo, Mamoru y Günter Petzow. "Recent Progress in Silicon Nitride and Silicon Carbide Ceramics". MRS Bulletin 20, n.º 2 (febrero de 1995): 19–22. http://dx.doi.org/10.1557/s0883769400049162.
Texto completoWOO, Sang Kook, In Sub HAN, Gyeong-Geun RI, Sung-Chul PARK, Kurn CHO y Byung-Koog JANG. "Hot-Corrosion Behavior of Silicon Nitride-Bonded Silicon Carbide." Journal of the Ceramic Society of Japan 109, n.º 1265 (2001): 23–28. http://dx.doi.org/10.2109/jcersj.109.23.
Texto completoSATO, Tadao, Toshiharu SUGIURA y Kazuyoshi SHIMAKAGE. "Microwave Joining of Ceramics, Silicon Nitride and Silicon Carbide". Journal of the Ceramic Society of Japan 101, n.º 1172 (1993): 422–27. http://dx.doi.org/10.2109/jcersj.101.422.
Texto completoBaldacim, Sandro Aparecido, Claudinei dos Santos, Olivério Moreira Macedo Silva y Cosme Roberto Moreira Silva. "Silicon Carbide Whiskers Interference on Silicon Nitride Based Composite". Materials Science Forum 591-593 (agosto de 2008): 543–47. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.591-593.543.
Texto completoNarushima, T., T. Goto, T. Hirai y Y. Iguchi. "High-Temperature Oxidation of Silicon Carbide and Silicon Nitride". Materials Transactions, JIM 38, n.º 10 (1997): 821–35. http://dx.doi.org/10.2320/matertrans1989.38.821.
Texto completoReddy, Navuri Kishan y Joydeb Mukerji. "Silicon Nitride-Silicon Carbide Refractories Produced by Reaction Bonding". Journal of the American Ceramic Society 74, n.º 5 (mayo de 1991): 1139–41. http://dx.doi.org/10.1111/j.1151-2916.1991.tb04356.x.
Texto completoKishan Reddy, N. y J. Mukerji. "Preparation and characterization of silicon nitride-silicon carbide composites". Bulletin of Materials Science 13, n.º 3 (junio de 1990): 173–78. http://dx.doi.org/10.1007/bf02744943.
Texto completoTanaka, Hidehiko, Peter Greil y Günter Petzow. "Sintering and strength of silicon nitride-silicon carbide composites". International Journal of High Technology Ceramics 1, n.º 2 (enero de 1985): 107–18. http://dx.doi.org/10.1016/0267-3762(85)90002-5.
Texto completoWeinmann, M., A. Zern y F. Aldinger. "Stoichiometric Silicon Nitride/Silicon Carbide Composites from Polymeric Precursors". Advanced Materials 13, n.º 22 (noviembre de 2001): 1704–8. http://dx.doi.org/10.1002/1521-4095(200111)13:22<1704::aid-adma1704>3.0.co;2-8.
Texto completoTuran, Servet y Kevin M. Knowles. "Interphase boundaries between hexagonal boron nitride and beta silicon nitride in silicon nitride-silicon carbide particulate composites". Journal of the European Ceramic Society 17, n.º 15-16 (enero de 1997): 1849–54. http://dx.doi.org/10.1016/s0955-2219(97)00070-8.
Texto completoVeltri, Richard D. y Francis S. Galasso. "Chemical-Vapor-Infiltrated Silicon Nitride, Boron Nitride, and Silicon Carbide Matrix Composites". Journal of the American Ceramic Society 73, n.º 7 (julio de 1990): 2137–40. http://dx.doi.org/10.1111/j.1151-2916.1990.tb05288.x.
Texto completoGatabi, Iman Rezanezhad, Derek W. Johnson, Jung Hwan Woo, Jonathan W. Anderson, Mary R. Coan, Edwin L. Piner y Harlan Rusty Harris. "PECVD Silicon Nitride Passivation of AlGaN/GaN Heterostructures". IEEE Transactions on Electron Devices 60, n.º 3 (marzo de 2013): 1082–87. http://dx.doi.org/10.1109/ted.2013.2242075.
Texto completoGhosh, S., P. K. Dutta y D. N. Bose. "Neural network modeling of PECVD silicon nitride films". Materials Science in Semiconductor Processing 2, n.º 1 (abril de 1999): 1–11. http://dx.doi.org/10.1016/s1369-8001(98)00023-7.
Texto completoKim, Byungwhan, Dong Won Kim y Seung Soo Han. "Refraction properties of PECVD of silicon nitride film". Vacuum 72, n.º 4 (enero de 2004): 385–92. http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2003.08.012.
Texto completoReynes, Brigitte y Jean Claude Bruyère. "High-density silicon nitride thin film in PECVD". Sensors and Actuators A: Physical 32, n.º 1-3 (abril de 1992): 303–6. http://dx.doi.org/10.1016/0924-4247(92)80003-l.
Texto completoKhaliq, M. A., Q. A. Shams, W. D. Brown y H. A. Naseem. "Physical properties of memory quality PECVD silicon nitride". Journal of Electronic Materials 17, n.º 5 (septiembre de 1988): 355–59. http://dx.doi.org/10.1007/bf02652118.
Texto completo