Literatura académica sobre el tema "Nitrure de titane (TiN)"

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Artículos de revistas sobre el tema "Nitrure de titane (TiN)"

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Kabbaj, M., A. Galerie y M. Caillet. "Revêtements composites TiAl3TiN sur le titane". Journal of the Less Common Metals 108, n.º 1 (junio de 1985): 1–21. http://dx.doi.org/10.1016/0022-5088(85)90427-8.

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Nardou, F., P. Raynaud y M. Billy. "Role de l'hydrogene dans le comportement du nitrure de titane en presence de melanges H2-H2O". Journal of the Less Common Metals 144, n.º 2 (diciembre de 1988): 321–29. http://dx.doi.org/10.1016/0022-5088(88)90146-4.

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Oh, Han Jun. "Synthesis of N Doped Titania Photocatalyst by Using an Electrochemical Oxidation of TiN Layer". Advanced Materials Research 651 (enero de 2013): 302–5. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.651.302.

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Resumen
In order to improve the photocatalytic efficiency, the N doped anodic titania film for photocatalyst was synthesized by anodic oxidation of TiN layer in sulfuric electrolyte, and the photocatalytic properties of N doped TiO2layer were investigated. During the oxidation process of the TiN layer, nitrogen was doped into the anodic titania film due to the change of the titanium nitride layer to TiO2layer film. In the evaluation of dye degradation, N doped titania catalyst shows much higher efficiency than non-doped titania film.
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Pacheco, F., R. Palomino, G. Martínez, A. Mendoza-Galván, R. Rodriguez y V. M. Castaño. "Optical Properties of Titania-Cobalt Nitrate Composite Thin Films". Advanced Composites Letters 5, n.º 6 (noviembre de 1996): 096369359600500. http://dx.doi.org/10.1177/096369359600500603.

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Resumen
Optical properties of titania thin films supported on silica plates and compounded with varying amounts of Co(II) from cobalt nitrate are reported. The ellipsometric characterization allows to model the spatial micro-structure of these thin film composites. The titania films were produced by the sol-gel method at room temperature and their thicknesses can be controlled by modifying the experimental conditions. The refractive index of the doped titania films was also determined by using ellipsometry.
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Choi, Jong-Jin, Gun-Tae Park, Chee-Sung Park y Hyoun-Ee Kim. "Ferroelectric and piezoelectric properties of highly oriented Pb(Zr,Ti)O3 film grown on Pt/Ti/SiO2/Si substrate using conductive lanthanum nickel nitrate buffer layer". Journal of Materials Research 20, n.º 3 (1 de marzo de 2005): 726–33. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.2005.0087.

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Resumen
The orientation and electrical properties of Pb(Zr,Ti)O3 thin films deposited on a Pt/Ti/SiO2/Si substrate using lanthanum nickel nitrate as a conductive buffer layer were analyzed. The lanthanum nickel nitrate buffer layer was not only electrically conductive but also effective in controlling the texture of the lead zirconate titanate (PZT) thin film. The role of the lanthanum nickel nitrate buffer layer and its effects on the orientation of the PZT thin film were analyzed by x-ray diffraction, electron beam back-scattered diffraction, and scanning electron microscopy. The annealed lanthanum nickel nitrate buffer layer was sufficiently conducting for use in longitudinal electrode configuration devices. The dielectric, ferroelectric, and piezoelectric properties of the highly (100) oriented PZT films grown with the lanthanum nickel nitrate buffer layer were measured and compared with those of (111) and (100) oriented PZT films deposited without a buffer layer.
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Ben Aissa, Chokri y Kaouther Khlifi. "Caractérisation nano-mécanique et tribologique des revêtements TiO2 et TiN déposés sur acier inoxydable 316L pour applications biomédicales". Matériaux & Techniques 109, n.º 1 (2021): 104. http://dx.doi.org/10.1051/mattech/2021016.

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Resumen
Dans ce travail, nous avons développé des couches nanométriques biocompatibles à base de titane (TiN et TiO2) sur acier inoxydable 316L, par CAE-PVD (Cathodic Arc Evaporation), qui est un procédé efficace pour la synthèse de revêtements de haute qualité. Nous avons axé notre étude sur une caractérisation mécanique et tribologique des revêtements par des tests d’indentation et des rayures. Les résultats obtenus montrent une morphologie dense et uniforme couplée à des propriétés mécaniques et interfaciales importantes. Les revêtements TiN et TiO2 ont montré une dureté comprise entre 5,9 GPa et 8,23 GPa. La mesure de l’adhérence par des tests de rayure a montré que les deux revêtements ont une qualité d’adhérence légèrement différente. Les couches développées en TiN et TiO2 ont montré des charges de cohésion critiques comprises entre 1,8 N et 3,3 N avec une charge d’adhérence critique de 13,1 N. Les propriétés tribologiques ont été étudiées, en utilisant un test de Scratch multi-passes à charge constante, ce qui a permis de déterminer le coefficient de frottement et le taux d’usure énergétique. Les coefficients de frottement des deux couches étudiées sont du même ordre de grandeur (0,1), mais on peut dire que la résistance au frottement varie d’une couche à l’autre. L’énergie spécifique d’usure était comprise entre 3,09 × 10−5 J/μm3 et 8,36 × 10−5 J/μm3, et elle n’a pas changé après immersion de la couche de TiN pendant 48 h dans une solution de NaCl à 3 %. Le film mince de TiN, connu pour sa biocompatibilité et ses performances biologiques, a montré des propriétés mécaniques et tribologiques qui lui permettent d’être utilisé dans les implants de hanche et de genou.
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Falaras, P., I. M. Arabatzis, T. Stergiopoulos y M. C. Bernard. "Enhanced activity of silver modified thin-filmTiO2photocatalysts". International Journal of Photoenergy 5, n.º 3 (2003): 123–30. http://dx.doi.org/10.1155/s1110662x03000230.

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Resumen
Novel, composite silver/titania immobilized on glass substrates were prepared, characterized and their photocatalytic activity was evaluated. The undoped original material consists of rough, high surface area nanocrystalline titanium dioxide (TiO2) thin films. To increase their efficiency, the TiO2films were modified by silver cations deposition and subsequent UV-C irradiation. SEM pictures confirmed the existence of an open porous network of interconnected titania particles on the semiconductor surface. AFM analysis proved the presence of spherical silver particles on the catalyst surface and provided quantitative surface parameters as fractal dimension, surface roughness and mean particle diameter. Spectroreflectometry showed the presence of an increase in optical absorbance attributed to plasmon resonance absorption of the silver clusters. The photocatalytic properties of the surface modified materials were investigated through photodegradation of Methyl Orange. The silver deposition conditions were optimized for maximum photocatalytic efficiency and crucial parameters such as dipping period, UV irradiation time, and concentration of the dipping solution were determined. The optimum silver nitrate concentration of the dipping solution was found to be10-3M. This silver doped photocatalyst decomposes the azo-dye pollutant 3-times faster than the un-doped Degussa P25TiO2film. A concentration increase results in a decrease of the films photocatalytic performance. Strength and reproducibility tests proved that the photocatalytic activity of the silver doped titania was perfectly reproducible.
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Lisińska-Czekaj, Agata, M. Czaja, Lucjan Kozielski, Dionizy Czekaj, M. Piechowiak, M. Nowakowski y K. Zawiślok. "Photoluminescence of Nanocrystalline Bismuth Titanate Thin Films Synthesized by the Sol-Gel Method". Materials Science Forum 514-516 (mayo de 2006): 128–32. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.514-516.128.

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Resumen
The present study is devoted to synthesis and investigation of photoluminescence in the nanosized Bi4Ti3O12 (BTO) thin films. The randomly oriented BTO thin films have been obtained by a modified hybrid sol-gel process. Bismuth nitrate and titanium (IV) butoxide were used as the starting materials. The thin films were deposited on silicon, glass and stainless steel by spin coating and crystallized by the conventional thermal annealing at temperature T=650°C. Formation of the layer perovskite-type structure of the orthorhombic symmetry was confirmed by X-ray diffraction method. Conservation of the chemical composition was investigated by energy dispersive spectroscopy. The UV luminescence has been observed in BTO thin films at room temperature. Results on luminescence excitation and emission in bismuth titanate thin films are given in the present paper.
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Žener, Boštjan, Lev Matoh, Giorgio Carraro, Bojan Miljević y Romana Cerc Korošec. "Sulfur-, nitrogen- and platinum-doped titania thin films with high catalytic efficiency under visible-light illumination". Beilstein Journal of Nanotechnology 9 (4 de junio de 2018): 1629–40. http://dx.doi.org/10.3762/bjnano.9.155.

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Resumen
Titanium dioxide photocatalysts have received a lot of attention during the past decades due to their ability to degrade various organic pollutants to CO2 and H2O, which makes them suitable for use in environmental related fields such as air and water treatment and self-cleaning surfaces. In this work, titania thin films and powders were prepared by a particulate sol–gel route, using titanium tetrachloride (TiCl4) as a precursor. Afterwards, the prepared sols were doped with nitrogen (ammonium nitrate, urea), sulfur (thiourea) and platinum (chloroplatinic acid), coated onto glass substrates by dip-coating, and thermally treated in a muffle furnace to promote crystallization. The resulting thin films were then characterized by various techniques (i.e., TGA-DSC-MS, XRD, BET, XPS, SEM, band gap measurements). The photocatalytic activity of the prepared thin films was determined by measuring the degradation rate of plasmocorinth B (PB), an organic pigment used in the textile industry, which can pose an environmental risk when expelled into wastewater. A kinetic model for adsorption and subsequent degradation was used to fit the experimental data. The results have shown an increase in photocatalytic activity under visible-light illumination of nonmetal and metal doped and co-doped titania thin films compared to an undoped sample.
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Schmitz, Tobias, Maren Jannasch, Tobias Weigel, Claus Moseke, Uwe Gbureck, Jürgen Groll, Heike Walles y Jan Hansmann. "Nanotopographical Coatings Induce an Early Phenotype-Specific Response of Primary Material-Resident M1 and M2 Macrophages". Materials 13, n.º 5 (4 de marzo de 2020): 1142. http://dx.doi.org/10.3390/ma13051142.

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Resumen
Implants elicit an immunological response after implantation that results in the worst case in a complete implant rejection. This biomaterial-induced inflammation is modulated by macrophages and can be influenced by nanotopographical surface structures such as titania nanotubes or fractal titanium nitride (TiN) surfaces. However, their specific impact on a distinct macrophage phenotype has not been identified. By using two different levels of nanostructures and smooth samples as controls, the influence of tubular TiO2 and fractal TiN nanostructures on primary human macrophages with M1 or M2-phenotype was investigated. Therefore, nanotopographical coatings were either, directly generated by physical vapor deposition (PVD) or by electrochemical anodization of titanium PVD coatings. The cellular response of macrophages was quantitatively assessed to demonstrate a difference in biocompatibility of nanotubes in respect to human M1 and M2-macrophages. Depending on the tube diameter of the nanotubular surfaces, low cell numbers and impaired cellular activity, was detected for M2-macrophages, whereas the impact of nanotubes on M1-polarized macrophages was negligible. Importantly, we could confirm this phenotypic response on the fractal TiN surfaces. The results indicate that the investigated topographies specifically impact the macrophage M2-subtype that modulates the formation of the fibrotic capsule and the long-term response to an implant.
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Tesis sobre el tema "Nitrure de titane (TiN)"

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Descotes, Vincent. "Précipitation des inclusions de nitrure de titane (TiN) dans un acier maraging au cours de sa refusion à l'arc électrique sous vide (VAR)". Thesis, Université de Lorraine, 2014. http://www.theses.fr/2014LORR0262/document.

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Resumen
Le titane contenu dans un acier maraging se combine avec l'azote résiduel pour former des inclusions de nitrure de titane (TiN), néfastes du point de vue des propriétés en fatigue de l'alliage. La compréhension de leur origine doit permettre de trouver les moyens de réduire leur taille. Des expériences de Sieverts ont été réalisées pour étudier d'un point de vue thermodynamique et cinétique les réactions de dénitruration de l'alliage et de précipitation des TiN. Au regard de ces expériences et des données thermodynamiques disponibles dans la littérature et compte-tenu des teneurs en azote résiduel, la formation des TiN est supposée avoir lieu lors de la solidification sous l’effet de la ségrégation interdendritique. Un certain nombre d'inclusions de TiN sont associées à un germe de type oxyde ou sulfure. L'observation au MET d'une de ces inclusions mixte révèle l'existence d’une relation d'orientation entre le nitrure TiN, un sulfure CaS et un spinelle MgAl2O4, ce qui suggère une croissance par épitaxie du TiN sur ces deux germes. L’étude a été complétée par des calculs ab initio d’énergies de surface et d’énergies d’adsorption. Ces travaux appuient l'hypothèse d'une germination hétérogène des nitrures de titane sur des particules préexistantes et stables dans l'acier liquide. Un modèle numérique de précipitation couplée à la ségrégation interdendritique a été développé puis intégré au logiciel SOLAR simulant la solidification du lingot VAR. Ces calculs quantifient l'influence déterminante sur la taille des plus grands nitrures de la teneur initiale en azote, de la densité de germes, et du temps local de solidification
The titanium contained in maraging steels combines itself with residual Nitrogen to form Titanium nitride precipitates (TiN), which are detrimental to fatigue properties. Understanding their formation may give some ways to reduce their sizes. A Sieverts apparatus was used to study denitriding reactions and precipitation reactions from a thermodynamic and kinetic point of view. According to these experiments, to thermodynamical data from literature, and to the Nitrogen content in the steel, the TiN inclusions are supposed to form during the solidification of the steel thanks to interdendritic segregation. A certain number of the TiN inclusions are found under SEM observations to be located next to another oxide or sulfur particle. A TEM observation reveals the existence of an orientation relationship between a nitride, a sulfur CaS and a spinel MgAl2O4. It suggests an epitaxial growth of the TiN on these two germs. This study was completed with ab initio calculations of surface energies and adsorption energies. This work supports the hypothesis of a heterogeneous nucleation of the Titanium nitrides on preexisting, stable particles in the liquid steel. A numerical model of the precipitation coupled to the interdendritic segregation of solutes is developed and introduced in the SOLAR software modelling the VAR ingot solidification. It evaluates the determinant influence of the initial Nitrogen mass fraction, germ number density and local solidification time on the TiN sizes
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Motte, Pascale. "Optimisation du procédé de dépôt CVD du cuivre et intégration de la métallisation cuivre en technologie d'interconnexion 0. 18 µm". Grenoble INPG, 2000. http://www.theses.fr/2000INPG0025.

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Resumen
Ce travail de thèse porte sur l'étude de la métallisation Cu-CVD avec une barrière TiN-CVD et son intégration dans des structures d'interconnexions double damascène en technologie 0. 18 µm et inférieure. Il concerne l'aspect matériau des interconnexions. L'intégration du cuivre impose la maîtrise de plusieurs paramètres tels que le dépôt de la métallisation dans des motifs graves à hauts facteurs de forme, comprenant le dépôt préliminaire d'une barrière à la diffusion du cuivre. Après une introduction sur l'importance croissante des interconnexions sur la performance finale des circuits intégrés avancés, une première partie du rapport de thèse portera sur le choix et l'optimisation de procédés chimiques en phase vapeur pour le dépôt de la barrière de diffusion TiN et le dépôt du Cu. Leurs performances seront évaluées sur des structures d'interconnexions et comparées à d'autres procédés de dépôt. Par la suite, nous tiendrons compte des conditions réelles d'intégration pour l'adaptation et l'optimisation des procédés de dépôts métal et diélectrique. Nous mettrons notamment en évidence les effets de contamination et d'interface des matériaux déposés en couches minces sur les performances des interconnexions. La possibilité d'intégrer la métallisation Cu-CVD/TiN-CVD avec l'oxyde de silicium comme isolant sera démontrée. Les industriels choisissent généralement de commencer l'intégration du cuivre en technologie 0. 18 µm avec une métallisation Cu-ECD/Cu-IMP/TaN-IMP ; nous étudierons dans le dernier chapitre les changements impliqués par ce choix sur les performances des interconnexions, et mettrons en évidence les avantages de la métallisation Cu-CVD/TiN-CVD pour les technologies plus avancées
This manuscript reports on Cu-CVD metallisation with TiN-CVD barrier and its integration in dual Damascene interconnects for 0. 18 µm technology and below. Copper integration implies the control of several parameters as metal deposition in patterned features with high aspect ratio, including the preliminary deposit of a barrier to avoid copper diffusion. After a short introduction on the growing importance of interconnects on the performance of interconnects on the performance of advanced integrated devices, the choice and the optimization of Chemical Vapour Deposition processes for both TiN diffusion barrier and Cu are addressed. Process performance are evaluated on interconnect structures and compared to other deposition processes. Interaction of other processes involved during integration with copper metallization is then studied and the metal and dielectric processes optimized in realistic conditions. Contamination effects on thin films deposited materials properties and their interface are shown to be critical for interconnect performance. Finally, the possibility to use Cu-CVD/TiN-CVD metallization with SiO2 dielectric material as insulator is demonstrated. Industrials generally begin copper integration in 0. 18 µm technology with Cu-ECD/Cu-IMP/Cu-TaN-IMP metallization; changes involved by this metallization choice are investigated in the last chapter and advantages of Cu-CVD/TiN-CVD metallization for more advanced technologies are evidenced
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Cemin, Felipe. "Élaboration de couches minces par HiPIMS : propriétés structurales et aspects énergétiques". Thesis, Université Paris-Saclay (ComUE), 2018. http://www.theses.fr/2018SACLS417/document.

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Resumen
La pulvérisation cathodique magnétron pulsée à haute puissance (HiPIMS) est un procédé de dépôt de couches minces dans lequel le flux de dépôt est principalement composé d’ions du matériau pulvérisé. Ce type de décharge permet de contrôler l’énergie et la direction des espèces qui seront déposées, ce qui est favorable à la modification de la structure et des propriétés finales des couches. Malgré tous les travaux de recherches menés pour caractériser et comprendre les conditions de décharge HiPIMS, la nécessité de développer des couches minces utiles à la société reste toujours d’actualité. La finalité de ce travail est l’obtention de couches minces HiPIMS plus performantes que celles obtenues aujourd'hui en utilisant des techniques de dépôt classiques. Pour cela il est indispensable d'identifier et d'optimiser les paramètres de dépôt permettant de modifier à la fois la microstructure des couches, la contrainte résiduelle et les propriétés liées à l'énergie telles que la résistivité électrique et la bande interdite. Trois matériaux sont au cœur de ce travail : le cuivre, le dioxyde de titane et le nitrure de titane. Les études expérimentales ont montré que les paramètres les plus importants pour obtenir les propriétés souhaitées étaient la quantité et l’énergie cinétique des espèces ionisées irradiant la couche au cours de sa croissance. Par ailleurs, les paramètres de croissance optimale entre couches métalliques et couches composées diffèrent considérablement
High power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) is a thin film deposition technique where the deposition flux is predominantly composed of ionized sputtered material. This enables control of energy and direction of the film-forming species and is thereby beneficial for tailoring the film structure and final properties. Although researchers world-wide have spent significant time and efforts characterizing and understanding the plasma process conditions in HiPIMS, research in new and improved HiPIMS-based thin film materials that find applications in areas of importance for society is still required. The goal of this work has been to identify and optimize the deposition parameters that allow tailoring the film microstructure, intrinsic stress and energy-related properties, such as electrical resistivity and optical band gap, to ultimately achieve superior HiPIMS coatings compared to what is achieved today using conventional deposition techniques. Three material systems constitute the core of the work: copper, titanium dioxide, and titanium nitride. From the work carried out it is concluded that the most important parameters affecting the film structure and properties are the amount as well as the kinetic energy of the ionized sputtered species irradiating the film during growth. These parameters differ substantially for optimum growth conditions of metallic and compound films
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Gîrleanu, Maria. "Etude de la structure de films minces de nitrure de titane et d'aluminium Ti1-xAlxN (0 ≤ x ≤ 1) et de son rôle sur l'indentation". Phd thesis, Université de Haute Alsace - Mulhouse, 2010. http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00604272.

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Une série de films Ti1-xAlxN (0 ≤ x ≤ 1, teneur en Al) de différentes épaisseurs (300 - 500 et ≃ 2000 nm) a été déposée par pulvérisation magnétron en atmosphère réactive sur des substrats en Si(l 00) et en acier rapide. Des indentations Vickers ont été réalisées sur les films déposés sur acier à des charges de 0,5 et 3 N. Différentes techniques d'analyse ont été utilisées pour la caractérisation structurale et microstructurale des films : diffraction des rayons X, spectroscopie d'absorption des rayons X, microscopie électronique en transmission. En DRX, la composition intermédiaire Ti0,32Al0,68N marque le passage entre la symétrie cubique observée pour les films riches en Ti (x ≤ 0,50) et la symétrie hexagonale observée pour les films riches en Al (x ≥ 0,68). Pour Ti0,32Al0,68N, DRX et EXAFS ont révélé la coexistence de domaines cubiques, dans les zones mal cristallisées, et de domaines hexagonaux, dans les zones cristallisées. La microstructure analysée en MET est colonnaire pour toute la série des films Ti1-xAlxN. L'examen des empreintes d'indentation réalisées à différentes charges montre que les couches de Ti1-xAlxN deviennent de plus en plus fragiles avec l'augmentation de la teneur en Al. Pour les films riches en Ti, la grande proportion de joints de grains permet le glissement des colonnes les unes contre les autres. Pour les films riches en Al, le nombre des fissures dans l'épaisseur augmente avec la proportion d'Al dans le film. De plus, une courbure des colonnes (constituées par des grains de symétrie hexagonale) sous la pointe de l'indenteur induit une désorientation de quelques degrés de ces cristallites autour de la direction principale de croissance.
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Normant, Antoine. "Durabilité d’interfaces tribologiques lubrifiées par des couches minces sous ultravide". Electronic Thesis or Diss., Ecully, Ecole centrale de Lyon, 2024. http://www.theses.fr/2024ECDL0016.

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Resumen
L’utilisation de couches minces pour la fonctionnalisation tribologique des surfaces est largement répandue dans l’industrie. Elle vise à maîtriser l’usure ou le frottement, selon qu’il s’agisse de couches dures ou de lubrifiants solides. Dans le contexte de contacts secs sous vide, où les phénomènes adhésifs sont prédominants, des transferts de matière entre les surfaces interviennent. Ils conduisent à la formation d’une interface qui conditionne le comportement tribologique du contact. Après une analyse approfondie des dégradations d’une couche mince de TiN en contact avec un acier dans un mécanisme réel, une modélisation expérimentale adaptée a permis de reproduire ces dégradations sur des surfaces modèles dans un tribomètre en environnement contrôlé. La géométrie sphère/plan du contact, avec le revêtement déposé sur la bille, induit une sollicitation continue de ce dernier, accélérant ainsi l’apparition des dégradations. Cette modélisation utilise un tribomètre unique au monde, permettant de réaliser des expériences tribologiques dans toutes les directions du plan et la mesure des forces résistantes aux déplacements dans toutes les directions de l’espace, grâce à son capteur de forces 6 axes. Cette étude expérimentale a mis en évidence les processus de formation et de rupture des jonctions adhésives dans des contacts impliquant des couches minces commerciales de natures variées, qu’elles soient dures (TiN) ou présentant de capacités de lubrification solide (MoS2 et carbone amorphe hydrogéné a-C:H). Le comportement tribologique des couches lubrifiantes est comparé à celui de la couche dure de TiN. Une analyse des phénomènes de transfert dans ces contacts met en évidence la distinction entre la durabilité de la couche (arrachement pour les couches dures et usure pour les couches tendres) et la durabilité du contact (caractérisée par l’apparition d’un grippage macroscopique). La durabilité du contact est intrinsèquement liée à l’évolution du matériau interfacial formé lors des transferts de matière entre surfaces, résultant des phénomènes adhésifs. Cette étude met en lumière la diversité et la complexité des modifications de surface induites par le frottement. Une approche novatrice, basée sur le croisement de traces de frottement, convertit le tribomètre en un outil analytique permettant de dissocier les rôles des différentes modifications de surface sur le comportement tribologique du contact. Cette démarche a été appliquée au cas particulier du frottement d’un acier contre une couche mince de carbone amorphe hydrogénée
The use of thin films for the tribological functionalization of surfaces is widespread in industry. The aim is to control wear or friction, depending on whether the coatings are hard or solid lubricants. In the context of dry contacts under vacuum, where adhesive phenomena predominate, mater transfers between surfaces occur. This leads to the formation of an interface that determines the tribological behavior of the contact. Following an analysis of the degradations of a thin layer of TiN in contact with steel in a real mechanism, an appropriate experimental modelling was set up to reproduce those degradations on model surfaces in an environment control tribometer. The sphere/plane geometry of the contact, with the coating deposited on the ball, induces a continuous exposure of the coating to friction, thus accelerating the appearance of degradation. This modelling uses a unique tribometer, enabling tribological experiments to be carried out in all directions of the plane and the measurement of displacement resisting forces in all directions of space, thanks to its 6-axis force sensor. This experimental study highlighted the formation and rupture processes of adhesive junctions in contacts involving commercial thin films of various natures, whether hard (TiN) or with solid lubrication capabilities (MoS2 and hydrogenated amorphous carbon a-C:H). The tribological behavior of the lubricating coatings is compared with that of the hard TiN coating. An analysis of the transfer phenomena in these contacts highlights the distinction between the durability of the coating (tearing for hard coatings and wear for soft ones) and the durability of the contact (characterized by the appearance of macroscopic seizure). The durability of the contact is intrinsically linked to the evolution of the interfacial material formed during the transfer of matter between surfaces, resulting from adhesive phenomena. This study highlights the diversity and complexity of surface modifications induced by friction. An original approach, based on the crossing of friction tracks, converts the tribometer into an analytical tool. It allows to dissociate the respective roles of the various surface modifications on the tribological behavior of the contact. This approach has been applied to the specific case of friction between steel and a thin layer of amorphous hydrogenated carbon
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RICHARD, EMMANUEL. "Etude du dépôt MOCVD de TiN et de son intégration comme matériau barrière pour la métallisation du cuivre". Université Joseph Fourier (Grenoble), 1998. http://www.theses.fr/1998GRE10081.

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Avec la reduction des dimensions caracteristiques des circuits integres, il est necessaire de diminuer les capacites entre lignes d'interconnexions ainsi que leurs resistances et d'ameliorer la fiabilite des interconnexions. L'introduction d'une metallisation cuivre permet de depasser les limitations actuelles. Cependant, l'integration du cuivre dans des structures d'interconnexions necessite l'introduction de nouveaux materiaux. Ces couches d'interface doivent verifier les proprietes suivantes : * empecher la diffusion du cuivre dans le silicium et dans les dielectrique meme pour des epaisseurs de films inferieures a 20 nm * avoir une faible resistivite (<300cm) * etre une couche d'interface assurant l'adherence du cuivre sur son substrat, permettant ainsi d'utiliser le polissage mecano-chimique lors de la fabrication des interconnexions en architecture double damascene * conformite de la couche deposee sur des motifs de facteurs de forme elevee (>4) le nitrure de titane (tin) est utilise couramment comme materiau barriere de diffusion et comme couche d'adherence dans l'industrie des semi-conducteurs. Le depot pvd de tin ne permet pas d'obtenir une bonne conformite de la couche deposee sur des motifs a facteurs de forme eleve. Le depot de tin par cvd a partir d'une chimie inorganique conduit a des couches a resistivites importantes contenant un pourcentage de chlore eleve a des temperatures inferieures a 500c. Au cours de cette etude, nous avons evalue et optimise un nouveau procede de depot cvd qui consiste a repeter de facon recurrente un depot pyrolytique du tin a partir d'un precurseur organometallique, le tetrakis (dimethylamino) titane (tdmat) et un traitement du film avec un plasma n#2/h#2. Les parametres de l'etude sont l'epaisseur initiale de la couche avant le traitement plasma (5 et 10 nm), la puissance du plasma et de la duree du traitement. Une correlation a ete realisee entre les performances en tant que couche barriere a la diffusion du cuivre et couche d'adherence, et les caracteristiques intrinseques du materiau tin.
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Carole, Davy. "Synthèse de nitrure de titane par combustion autopropagée". Montpellier 2, 2004. http://www.theses.fr/2004MON20141.

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Anglezio-Abautret, Florence. "Diffusion de l'azote dans le nitrure de titane". Paris 11, 1990. http://www.theses.fr/1990PA112303.

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Resumen
Cette etude sur la diffusion de l'azote dans le nitrure de titane a ete realisee a partir de la determination directe de profils de concentration. Le nitrure de titane est soit monocristallin de composition tin#0#,#8#2, soit polycristallin de composition tin#0#,#9#4. Le traceur est introduit par deux methodes differentes: la methode d'implantation ionique et la methode d'echange isotopique gaz-solide dans un domaine de temperature situe entre 700#oc et 1800#oc. Les profils de concentration d'azote 15 sont mesures a l'aide de l'analyseur ionique (sims). Par cette etude, nous avons determine des coefficients de diffusion de l'azote et des energies d'activation de 4,5 ev/at pour les polycristaux et 2,1 ev/at pour les monocristaux. Par la methode d'implantation ionique, nous avons obtenu une enthalpie de formation de l'ordre de 0,6 ev/at. Par la methode d'echange gaz-solide, nous avons calcule des coefficients de diffusion aux joints de grains. A basse temperature (t<900#oc pour les monocristaux et t<1400#oc pour les polycristaux), la diffusion est gouvernee par un regime extrinseque (impuretes)
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Vergnaud, Luc. "Réalisation de couches minces de nitrure de titane par dépôt ionique avec évaporation laser du titane". Limoges, 1994. http://www.theses.fr/1994LIMO0031.

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Les travaux concernent l'etude et l'optimisation d'un systeme de depot de couches minces anti-usure utilisant une source d'evaporation par laser pulse, dans le but de pouvoir deposer ces couches minces a l'interieur de tubes de faibles diametres, les techniques classiques ne le permettant pas. Tout d'abord, le choix du materiau de depot le nitrure de titane est justifie et ses principales proprietes decrites. Le but de ce travail etant d'essayer de comprendre et de maitriser cette methode de depot, une synthese des travaux realises sur l'interaction laser-matiere est presentee, afin d'expliquer les phenomenes mis en jeu puis definir les parametres importants. Nous nous sommes ensuite attaches a realiser puis optimiser une source d'evaporation laser permettant d'obtenir des depots de bonne qualite. A partir de la, et apres avoir explique le fonctionnement du systeme de depot utilise, nous avons realise des couches minces en faisant varier les differents parametres pression, temperature de substrat, polarisation du substrat, vitesse de deplacement de la cible, cycle de nettoyage. Les proprietes des depots obtenus sont alors decrites puis analysees afin de determiner les parametres optimaux pour l'obtention de couches anti-usure a l'interieur de tubes de faibles diametres
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LEQUEUX, SYLVIE. "Corrosion du nitrure de titane par des metaux et alliages liquides". Grenoble INPG, 1997. http://www.theses.fr/1997INPG0216.

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Resumen
Nous avons etudie la reactivite et la mouillabilite de certains alliages de cuivres et d'uranium avec du tin. Les principaux parametres etudies sont la microstructure et la sous-stoechiometrie du tin, la duree et la temperature de l'experience ainsi que la composition des alliages. Les essais de goutte posee sont realisees sous vide secondaire a l'interieur d'une boite tantale fermee et isotherme. Les resultats experimentaux, en bon accord avec la thermodynamique indique l'absence de toute reactivite mesurable a l'interface cu / tin stoechiometrique. Pour ce meme substrat, nous observons la penetration des alliages cu-al aux joints de grains de tin et la formation de aln et de al#3ti. L'emploi de tin sous-stoechiometrique en surface permet de diminuer sensiblement la reactivite et de supprimer pratiquement la penetration intergranulaire. Pour les alliages d'uranium, nous observons des les premiers instants de contact, la formation d'une couche de un a l'interface en accord avec la thermodynamique. La croissance de cette couche est assuree par un processus majoritaire de decomposition du tin et par un processus minoritaire de denitruration du tin. Aux temps eleves, l'epaisseur de la couche ne croit plus car l'alliage est sature en titane. Neanmoins, nous observons un gravage des joints de grains au contact avec le liquide. L'ajout de titane dans l'alliage u-fe empeche la formation de un mais aucune penetration intergranulaire n'est observee.
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Capítulos de libros sobre el tema "Nitrure de titane (TiN)"

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Zazhigalov, Valery O., Olena V. Sachuk, Olena A. Diyuk y Iryna V. Bacherikova. "Mechanochemical and sonochemical syntheses of new nanocomposites". En NEW FUNCTIONAL SUBSTANCES AND MATERIALS FOR CHEMICAL ENGINEERING, 79–92. PH “Akademperiodyka”, 2021. http://dx.doi.org/10.15407/akademperiodyka.444.079.

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Resumen
For the first time the possibility of the complex nanodispersed compound formation at mechanochemical and sonochemical treatment of the initial compounds mixture was shown. Mechochemical treatment of the mixture of molybdenum oxide and bismuth nitrate permits to obtain of bismuth molybdate in form of nanoparticles, in the same time the treatment of mixture of titanium oxide and calcium hydroxide leads to formation of calcium titanate in form of nanoprisms. It was shown that mechanochemical treatment of the mixture of titanium oxide and tin oxide leads to formation of titanium oxide amorphous layer on tin oxide surface. The mechanism of nanodispersed zinc molybdate formation at sonochemical treatment of initial oxides was established. It was shown that nanocomposites synthesized by these methods demonstrate the higher catalytic activity in organic compounds neutralization processes in water solutions at visible light irradiation and in the process of bioethanol selective oxidation to acetaldehyde and hydrogen in comparison with known analogous catalysts synthesized by traditional methods.
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L.A. Cunha, Cícero, Tales C. Pimenta y Mariana A. Fraga. "Development and Applications of Aluminum Nitride Thin Film Technology". En Thin Film Deposition - Fundamentals, Processes, and Applications [Working Title]. IntechOpen, 2022. http://dx.doi.org/10.5772/intechopen.106288.

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Resumen
Aluminum nitride (AlN) thin films have aroused the interest of researchers due to their unique physicochemical properties. However, further studies on these semiconductor materials are still necessary to establish the manufacturing of high-performance devices for applications in various areas, such as telecommunications, microelectronics, and biomedicine. This chapter introduces AlN thin film technology that has made a wide range of applications possible. First, the main physicochemical properties of AlN, its wurtzite crystalline structure, and the incorporation of oxygen during the thin film deposition process are presented. Furthermore, the growth of AlN films by different techniques and their applications as a buffer layer and sensing layer are summarized. Special attention was given to the sputtering deposition process and the use of sputtered AlN films in SAW sensors.
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Fathy Mubarak, Mahmoud, Alshimaa Maher Ahmed y Sahar saad Gabr. "Nanoporous Carbon Materials toward Phenolic Compounds Adsorption". En Nanopores [Working Title]. IntechOpen, 2021. http://dx.doi.org/10.5772/intechopen.96380.

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Resumen
Nanoporous carbon-based sorbents are used to generate a three-dimensional real-space model of the nanoporous structure using the concept of Gaussian random fields. This pore model is used to derive important pore size characteristics, which are cross-validated against the corresponding values from gas sorption analysis. After filling the model pore structure with an aqueous electrolyte and rearranging the ions via a Monte Carlo simulation for different applied adsorption potentials. In comparison to nanopores formed from solid-state membranes (e.g., silicon oxide, aluminum oxide, polymer membranes, glass, hafnium oxide, gold, etc.) and very recently 2D materials (e.g., boron nitride, molybdenum disulfide, etc.), those nanopores produced from carbon materials (e.g., graphene, carbon nanotubes (CNTs), diamond, etc.), especially those from graphene appear to be perfect for adsorption process. The thickness of carbon structures nanopores can be as thin as 0.35 nm, resembling the height of the base spacing. Moreover, the sizes of carbon structures nanopores can be precisely fabricated and tuned to around 1.0 nm, the similar size of many heavy metals and organic pollutants molecules. Furthermore, carbon materials are chemically stable and feature-rich surface chemistry. Therefore, various carbon nanopore sequencing techniques have been developed. Finally, in this chapter the adsorption of phenolic compounds on nanoporous carbon specifically the active carbon are overviewed and how to affect the heterogeneity of activated carbon surface, PH of the solution on the efficiency of adsorption.
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Aamir Iqbal, Muhammad, Maria Malik, Wajeehah Shahid, Waqas Ahmad, Kossi A. A. Min-Dianey y Phuong V. Pham. "Plasmonic 2D Materials: Overview, Advancements, Future Prospects and Functional Applications". En Nanostructured Materials - Classification, Growth, Simulation, Characterization, and Devices [Working Title]. IntechOpen, 2021. http://dx.doi.org/10.5772/intechopen.101580.

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Resumen
Plasmonics is a technologically advanced term in condensed matter physics that describes surface plasmon resonance where surface plasmons are collective electron oscillations confined at the dielectric-metal interface and these collective excitations exhibit profound plasmonic properties in conjunction with light interaction. Surface plasmons are based on nanomaterials and their structures; therefore, semiconductors, metals, and two-dimensional (2D) nanomaterials exhibit distinct plasmonic effects due to unique confinements. Recent technical breakthroughs in characterization and material manufacturing of two-dimensional ultra-thin materials have piqued the interest of the materials industry because of their extraordinary plasmonic enhanced characteristics. The 2D plasmonic materials have great potential for photonic and optoelectronic device applications owing to their ultra-thin and strong light-emission characteristics, such as; photovoltaics, transparent electrodes, and photodetectors. Also, the light-driven reactions of 2D plasmonic materials are environmentally benign and climate-friendly for future energy generations which makes them extremely appealing for energy applications. This chapter is aimed to cover recent advances in plasmonic 2D materials (graphene, graphene oxides, hexagonal boron nitride, pnictogens, MXenes, metal oxides, and non-metals) as well as their potential for applied applications, and is divided into several sections to elaborate recent theoretical and experimental developments along with potential in photonics and energy storage industries.
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Hakan Yilmaz, Ahmet, Bülend Ortaç, Saliha Mutlu y Sevil Savaskan Yilmaz. "Synthesis of Polyethylene-Based Materials, Ion Exchanger, Superabsorbent, Radiation Shielding, and Laser Ablation Applications". En Polyethylene - New Developments and Applications [Working Title]. IntechOpen, 2023. http://dx.doi.org/10.5772/intechopen.1003665.

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Resumen
Polyethylene (PE), ion exchangers and membranes, super absorbents, radiation shielding, and laser ablation are covered initially. In the second part, studies on polyethylene-based ion exchangers and membranes are given. Ion exchangers and membranes chemically modify copolymers to exchange ions in the electrolyte solution. The third segment covers research on polyethylene-based super absorbent copolymers and composites for water retention and heavy metal contamination removal. Super absorbent polymers are hydrophilic, water-insoluble polymers that absorb plenty of water. With their expansion capacity and user-friendliness, super absorbents are widely used in various fields such as biomedicine, drug distribution, personal care products, batteries, tissue engineering, construction, food packaging, heavy metal separation, electronics, cables, cosmetics, and agriculture. Polyethylene-based polymeric composites are used more to minimize radiation. PE’s high hydrogen concentration absorbs neutrons, making it a radiation shield. Block copolymers of polystyrene-b-poly-ethyleneglycol and boron nitride particles can make selenium dioxide a structural material and radiation barrier when paired with nanostructures. The fourth section examines the optical and conductivity properties of laser-ablated polyethylene nanocomposites with metal oxide nanoparticles. Laser ablation polishes metal, transparent materials, composites with surface and interior changes, and nanomaterials. Polymer laser ablation improves surface modification and thin layer deposition. Laser wavelength affects UHMWPE wettability.
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Actas de conferencias sobre el tema "Nitrure de titane (TiN)"

1

Grigoriu, Constantin, Ileana Apostol, Roxana Rizea, Aurelian Marcu y Dumitru Dragulinescu. "Plasma analysis in the process of pulsed laser deposition of aluminium nitride and titan nitride thin films". En SIOEL: Sixth Symposium of Optoelectronics, editado por Teodor Necsoiu, Maria Robu y Dan C. Dumitras. SPIE, 2000. http://dx.doi.org/10.1117/12.378674.

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Chailly, Mikae¨l, Vincent Gilbert, Jean-Yves Charmeau y Yves Bereaux. "Study of the Influence of Surface Mold Deposits on the Demolding Stage of the Injection Molding Process of Thermoplastics". En ASME 2006 International Mechanical Engineering Congress and Exposition. ASMEDC, 2006. http://dx.doi.org/10.1115/imece2006-15628.

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Resumen
Due to increasing expectings from the market, the aspect of molded parts has to be improved. Some of the defects observed such as scratches on these parts is related to the demolding stage. To limit this, we investigated the influence on demolding forces using various surface deposits on the mold surface, mainly PVD and PACVD deposits : Chromium nitrium (CrN), Titane nitrium (TiN), Diamond like Carbon (DLC), glassy deposit (SiOx), Chromium and polished steel on an cube-shaped insert in an instrumented mold (with force sensors). Injection campaign was led on three polymers which differ in terms of nature : an amorphous polymer (polycarbonate), a semi-crystalline one (polybutylene terephatalate) and one mix of copolymers (styrene acrylonitrile/ acrylonitrile butadiene styrene). We studied the evolution of these forces through the demolding stage. This allowed us to evaluate the work energy necessary to eject the part from the insert, and to correlate those data to shrinkage of the polymer part, adhesion between polymer and mold surface and friction coefficient between those surfaces during the demolding stage. We also measured the influence the surface temperature of the part just before the demolding stage thanks to an infrared camera to investigate the thermal influence of these deposits in the injection process. Our results show an influence of deposits on demolding forces which is strongly dependent on nature of the polymer (of course) but also on its chemical nature. They also have a slight influence on temperature of the part even if they are only a few microns thick. We therefore developped a method to evaluate surface deposits and their impact on demolding forces, in terms of adhesion polymer/treament and friction.
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3

Fick, J., G. Vitrant, S. Pelli, G. C. Righini, M. Guglielmi y A. Martucci. "Measurements of nonlinear properties on semiconductor-doped sol-gel films". En The European Conference on Lasers and Electro-Optics. Washington, D.C.: Optica Publishing Group, 1994. http://dx.doi.org/10.1364/cleo_europe.1994.cthp3.

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Resumen
Thin silica-titania planar waveguides doped with cadmium sulphide have been prepared on fused silica substrates using the sol-gel technique. Tetraethoxisylane (TEOS) and titanium butilate Ti(n-OBu)4 (30%) were used as precursors of the film.1 The semiconductor dopants have been introduced by adding cadmium nitrate and thiourea to the starting solution as precursors of cadmium and sulphur, respectively. The films have been produced by dipping the samples in the solution and withdrawing them at constant speed. Thereafter the samples have been densified at 300°C for 4 hours in nitrogen atmosphere in order to prevent outdiffusion of the dopants. The thickness of the films is typically about 1300 A and their refractive index is 1.63 at 633 nm.
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