Artículos de revistas sobre el tema "Ni-Cr Thin Films"
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Sethuraman, A. R., R. J. De Angelis y P. J. Reucroft. "Diffraction studies on Ni–Co and Ni–Cr alloy thin films". Journal of Materials Research 6, n.º 4 (abril de 1991): 749–54. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1991.0749.
Texto completoYAN, JIANWU y JICHENG ZHOU. "THE OXIDATION AND THE ELECTRICAL PROPERTIES OF Ni–Cr THIN FILM AFTER RAPID THERMAL ANNEALING". International Journal of Modern Physics B 21, n.º 26 (20 de octubre de 2007): 4561–74. http://dx.doi.org/10.1142/s0217979207037934.
Texto completoLin, Ruei-Cheng, Tai-Kuang Lee, Der-Ho Wu y Ying-Chieh Lee. "A Study of Thin Film Resistors Prepared Using Ni-Cr-Si-Al-Ta High Entropy Alloy". Advances in Materials Science and Engineering 2015 (2015): 1–7. http://dx.doi.org/10.1155/2015/847191.
Texto completoStearns, M. B. y C. H. Lee. "Dimensional effects in Ni‐Cr multilayered thin films". Journal of Applied Physics 61, n.º 8 (15 de abril de 1987): 4064–66. http://dx.doi.org/10.1063/1.338528.
Texto completoVollaro, M. B. y D. I. Potter. "Phase formation in coevaporated NiCr thin films". Thin Solid Films 239, n.º 1 (febrero de 1994): 37–46. http://dx.doi.org/10.1016/0040-6090(94)90105-8.
Texto completoCho, Ki-Hyun y Youngman Kim. "Elastic modulus measurement of multilayer metallic thin films". Journal of Materials Research 14, n.º 5 (mayo de 1999): 1996–2001. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1999.0269.
Texto completoZhou, Ji Cheng y Jian Wu Yan. "Microstructure and Electrical Properties of Nano Ni-Cr Thin-Films Fabricated by Magnetron Co-Sputtering Techniques". Materials Science Forum 561-565 (octubre de 2007): 1201–4. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.561-565.1201.
Texto completoCho, Nam Ihn, Se Jong Lee, Yo Seung Song y Deuk Yong Lee. "Thermal Properties of Cr- and Ni- Silicide Thin Films". Solid State Phenomena 124-126 (junio de 2007): 189–94. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.124-126.189.
Texto completoPetley, Vijay, S. Sathishkumar, K. H. Thulasi Raman, G. Mohan Rao y U. Chandrasekhar. "Microstructural and mechanical characteristics of Ni–Cr thin films". Materials Research Bulletin 66 (junio de 2015): 59–64. http://dx.doi.org/10.1016/j.materresbull.2015.02.002.
Texto completoVinayak, Seema, H. P. Vyas y V. D. Vankar. "Microstructure and electrical characteristics of Ni–Cr thin films". Thin Solid Films 515, n.º 18 (junio de 2007): 7109–16. http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2007.03.011.
Texto completoAbdul-Razzaq, W. y M. Amoruso. "Electron transport properties of Ni and Cr thin films". Physica B: Condensed Matter 253, n.º 1-2 (octubre de 1998): 47–51. http://dx.doi.org/10.1016/s0921-4526(98)00382-2.
Texto completoKlein, I. E., M. Hershkovich y I. A. Goldberg. "The mechanism of oxidation of thin Ni−Cr films". Microelectronics Journal 19, n.º 6 (noviembre de 1988): 17–23. http://dx.doi.org/10.1016/s0026-2692(88)80005-3.
Texto completoPetrovic, S., N. Bundaleski, M. Radovic, Z. Ristic, G. Gligoric, D. Perusko y S. Zec. "Structure and surface composition of NiCr sputtered thin films". Science of Sintering 38, n.º 2 (2006): 155–60. http://dx.doi.org/10.2298/sos0602155p.
Texto completoRai, A. K. y R. S. Bhattacharya. "Sputter-deposited and ion-mixed NiTi and NiCr thin films". Materials Science and Engineering 85 (enero de 1987): 139–45. http://dx.doi.org/10.1016/0025-5416(87)90475-7.
Texto completoYu, Xin Gang, Hong Wen Ma, Fei Long, Hui Feng Zhao, Wenrue Bi, Wu Wen Luo, Li Wang y Nanyun Liu. "XPS Studies on Composite TiO2-SiO2 Thin Films Deposited on Metal Substrate by Sol-Gel". Materials Science Forum 475-479 (enero de 2005): 1647–50. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.475-479.1647.
Texto completoMengucci, P., M. Costato y G. Majni. "Substrate effect on texturized microstructures in NiCr thin films". Thin Solid Films 209, n.º 1 (marzo de 1992): 67–72. http://dx.doi.org/10.1016/0040-6090(92)90011-y.
Texto completoBelu-Marian, A., R. Mǎnǎilǎ, G. Korony, C. Constantin y A. Devenyi. "Electrical properties and structural defects of Ni-Cr thin films". Thin Solid Films 139, n.º 1 (mayo de 1986): 15–24. http://dx.doi.org/10.1016/0040-6090(86)90043-x.
Texto completoHuang, T. C. y J. K. Howard. "Characterization of Ni-Cr thin films by X-ray analysis". Thin Solid Films 148, n.º 2 (abril de 1987): 209–18. http://dx.doi.org/10.1016/0040-6090(87)90159-3.
Texto completoAu, C. L., M. A. Jackson y W. A. Anderson. "Structural and electrical properties of stable ni/cr thin films". Journal of Electronic Materials 16, n.º 4 (julio de 1987): 301–6. http://dx.doi.org/10.1007/bf02653370.
Texto completoGoldsmith, C. C. y C. Van Buskirk. "Residual Stress Measurements on Cr/Ni Pads Evaporated on Polyimide Thin Films". Advances in X-ray Analysis 36 (1992): 203–12. http://dx.doi.org/10.1154/s0376030800018802.
Texto completoBanovec, A. y A. Zalar. "Investigation of sliding contact resistance of Ni-Cr/Au and Ni-Cr/Au-SiO2 thin resistive films". Thin Solid Films 164 (octubre de 1988): 129–33. http://dx.doi.org/10.1016/0040-6090(88)90122-8.
Texto completoZhao, Di, Xuezheng An, Yaxian Sun, Guihua Li, Hongyan Liu y Aichang Li. "Photocatalytic properties of p-n heterojunction Ag2CO3/Ag3PO4/Ni thin films under visible light". Functional Materials Letters 12, n.º 06 (diciembre de 2019): 1950085. http://dx.doi.org/10.1142/s1793604719500851.
Texto completoSuzuki, Tsuneo, Jun Inoue, Hiroki Asami, Tomoya Ibi, Tadachika Nakayama, Hisayuki Suematsu y Koichi Niihara. "Material Design of Transition Metal Nitrides for Hard Coatings by Metal and Nonmetal Atom Substitution". Key Engineering Materials 373-374 (marzo de 2008): 122–25. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.373-374.122.
Texto completoHono, K., B. G. Demczyk y D. E. Laughlin. "Electron microdiffraction of faulted regions in Co‐Cr and Co‐Ni‐Cr thin films". Applied Physics Letters 55, n.º 3 (17 de julio de 1989): 229–31. http://dx.doi.org/10.1063/1.101915.
Texto completoDanışman, M. y N. Cansever. "Effect of Cr content on mechanical and electrical properties of Ni–Cr thin films". Journal of Alloys and Compounds 493, n.º 1-2 (marzo de 2010): 649–53. http://dx.doi.org/10.1016/j.jallcom.2009.12.180.
Texto completoKalnicky, Dennis J. "EDXRF Analysis of Thin Films and Coatings Using a Hybrid Alphas Approach". Advances in X-ray Analysis 29 (1985): 403–11. http://dx.doi.org/10.1154/s037603080001051x.
Texto completoSchippel, E. "Ternary alloy films of Ni-Cr-Al for thin film resistors". Thin Solid Films 146, n.º 2 (enero de 1987): 133–38. http://dx.doi.org/10.1016/0040-6090(87)90214-8.
Texto completoIida, Atsuko y Shin-ichi Nakamura. "Orientation of Ni-Cr Thin Films with an Underlying Ti Layer". Japanese Journal of Applied Physics 35, Part 2, No. 3A (1 de marzo de 1996): L335—L337. http://dx.doi.org/10.1143/jjap.35.l335.
Texto completoYedong, He y F. H. Stott. "The selective oxidation of Ni-15%Cr and Ni-10%Cr alloys promoted by surface-applied thin oxide films". Corrosion Science 36, n.º 11 (noviembre de 1994): 1869–84. http://dx.doi.org/10.1016/0010-938x(94)90024-8.
Texto completoDang, Nhat, Zhao-Ying Wang, Ti-Yuan Wu, Tra Nguyen y Ming-Tzer Lin. "Measurement of Effects of Different Substrates on the Mechanical Properties of Submicron Titanium Nickel Shape Memory Alloy Thin Film Using the Bulge Test". Micromachines 12, n.º 1 (15 de enero de 2021): 85. http://dx.doi.org/10.3390/mi12010085.
Texto completoKim, Tae-Yoo, Hwa-Jin Son, Seung-Kyu Lim, Kwang-Keun Lee y Su-Jeong Suh. "Electrical and Structural Properties of Ni-60%Cr Thin Film in an Embedded Resistor". Korean Journal of Metals and Materials 52, n.º 2 (5 de febrero de 2014): 143–47. http://dx.doi.org/10.3365/kjmm.2014.52.2.143.
Texto completoMeena, S. P. y R. Ashokkumar. "Effect of different Current density on Properties of Electrodeposited Ni-Co-Cr Thin Films". Oriental Journal of Chemistry 34, n.º 4 (31 de julio de 2018): 1884–89. http://dx.doi.org/10.13005/ojc/3404023.
Texto completoBenzitouni, Sara, Mourad Zaabat, Jean Ebothé, Abdelhakim Mahdjoub y Meriem Guemini. "Effect of Transition Metals on the Mechanical Properties of ZnO Thin Films, Prepared by Sol-Gel Method". Journal of Nano Research 65 (diciembre de 2020): 27–38. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/jnanor.65.27.
Texto completoYAN, JIANWU y JICHENG ZHOU. "STRAIN SENSITIVITY AND TEMPERATURE INFLUENCE OF NICHROME (80/20 wt.%) THIN FILM FABRICATED BY MAGNETRON SPUTTERING". International Journal of Modern Physics B 21, n.º 21 (20 de agosto de 2007): 3719–31. http://dx.doi.org/10.1142/s0217979207037636.
Texto completoGenut, M. y Y. Komem. "Diffusional processes in thin films of Au/CeO2 on NiCr superalloy". Thin Solid Films 144, n.º 2 (noviembre de 1986): 211–22. http://dx.doi.org/10.1016/0040-6090(86)90414-1.
Texto completoBoubeker, B., J. P. Eymery, M. F. Denanot y E. L. H. Sayouty. "A TEM and CEMS study of bcc Fe-Ni-Cr thin films". Journal of Magnetism and Magnetic Materials 133, n.º 1-3 (mayo de 1994): 470–73. http://dx.doi.org/10.1016/0304-8853(94)90598-3.
Texto completoProtsenko, I. Yu, O. V. Shovkoplyas, Yu M. Ovcharenko y N. M. Opanasyuk. "The electrophysical properties of thin polycrystalline Cr, Cu, Ni and Ti films". Journal of Physical Studies 2, n.º 1 (1998): 105–8. http://dx.doi.org/10.30970/jps.02.105.
Texto completoBohne, Yvonne, Darina Manova, Stephan Mändl, Horst Neumann y Bernd Rauschenbach. "Influence of Microstructure on Nitrogen Diffusion in Fe-Cr-Ni Thin Films". Plasma Processes and Polymers 4, S1 (abril de 2007): S660—S663. http://dx.doi.org/10.1002/ppap.200731605.
Texto completoZalar, A. y S. Hofmann. "Redeposition in AES sputter depth profiling of multilayer Cr/Ni thin films". Surface and Interface Analysis 12, n.º 2 (julio de 1988): 83–86. http://dx.doi.org/10.1002/sia.740120204.
Texto completoDraper, C. W., J. P. Franey, J. M. Gibson, T. E. Graedel, D. C. Jacobson, G. W. Kammlott y J. M. Poate. "Microstructure and behavior of laser-mixed Cr/Ni films on Cu alloys". Journal of Materials Research 2, n.º 1 (febrero de 1987): 35–45. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1987.0035.
Texto completoChoi, J.-H., C. M. Sung, K. H. Shin y L. F. Allard. "Effect of Pt content on compositional segregation in Co-Cr-P-Pt/Cr magnetic thin films". Proceedings, annual meeting, Electron Microscopy Society of America 54 (11 de agosto de 1996): 1022–23. http://dx.doi.org/10.1017/s0424820100167573.
Texto completoHou, Yang Lu, Xing Hua Fu, Wen Hong Tao y Xin Jin. "Structure and Dielectric Properties of Mg, Cr-Doped LaSrFeO3 Films". Applied Mechanics and Materials 538 (abril de 2014): 11–14. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amm.538.11.
Texto completoHE, Y. y F. H. STOTT. "ChemInform Abstract: Selective Oxidation of Ni-15% Cr and Ni-10% Cr Alloys Promoted by Surface-Applied Thin Oxide Films." ChemInform 26, n.º 5 (18 de agosto de 2010): no. http://dx.doi.org/10.1002/chin.199505022.
Texto completoKrabac, Lubomir, Vladimir Pejaković, Vladislav Drinek, Nicole Dörr y Ewald Badisch. "Tribology of Ge thin films on stainless steel". Industrial Lubrication and Tribology 69, n.º 2 (13 de marzo de 2017): 182–89. http://dx.doi.org/10.1108/ilt-06-2016-0128.
Texto completoRatner, E., A. Appelbaum, R. Brener y M. Eizenberg. "Interactions of Thin Al Films with Ni–Cr Alloy and Bilayer Films Deposited on Si". physica status solidi (a) 94, n.º 1 (16 de marzo de 1986): 61–69. http://dx.doi.org/10.1002/pssa.2210940106.
Texto completoLee, Seung-Woo, Soad Ahmed, Tao Wang, Yeawon Park, Sota Matsuzaki, Shinichi Tatsumi, Shigekiyo Matsumoto, Sergiy Korposh y Steve James. "Label-Free Creatinine Optical Sensing Using Molecularly Imprinted Titanium Dioxide-Polycarboxylic Acid Hybrid Thin Films: A Preliminary Study for Urine Sample Analysis". Chemosensors 9, n.º 7 (17 de julio de 2021): 185. http://dx.doi.org/10.3390/chemosensors9070185.
Texto completoTsirlina, T., V. Lyakhovitskaya, S. Fiechter y R. Tenne. "Study on preparation, growth mechanism, and optoelectronic properties of highly oriented WSe2 thin films". Journal of Materials Research 15, n.º 12 (diciembre de 2000): 2636–46. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.2000.0378.
Texto completoMartín-Palma, R. J. y J. M. Martínez-Duart. "Ni–Cr passivation of very thin Ag films for low-emissivity multilayer coatings". Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 17, n.º 6 (noviembre de 1999): 3449–51. http://dx.doi.org/10.1116/1.582081.
Texto completoSato, Yuichi, Masaya Watanabe y Susumu Sato. "Electrical Properties of Ni–Cr–N Thin Films Deposited by Multitarget Reactive Sputtering". Japanese Journal of Applied Physics 40, Part 1, No. 8 (15 de agosto de 2001): 5091–94. http://dx.doi.org/10.1143/jjap.40.5091.
Texto completoLee, Ying-Chieh, Voon Choong Yen, Christian Pithan y Jhen-Hau Jan. "Study of Ni–Cr / CrN bilayer thin films resistor prepared by magnetron sputtering". Vacuum 213 (julio de 2023): 112085. http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2023.112085.
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