Artículos de revistas sobre el tema "H Thin Films"
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Baldi, A., V. Palmisano, M. Gonzalez-Silveira, Y. Pivak, M. Slaman, H. Schreuders, B. Dam y R. Griessen. "Quasifree Mg–H thin films". Applied Physics Letters 95, n.º 7 (17 de agosto de 2009): 071903. http://dx.doi.org/10.1063/1.3210791.
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Texto completoBurlaka, Vladimir, Kai Nörthemann y Astrid Pundt. "Nb-H Thin Films: On Phase Transformation Kinetics". Defect and Diffusion Forum 371 (febrero de 2017): 160–65. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ddf.371.160.
Texto completoBorisov, A. G. y H. Winter. "Formation of H− on thin aluminum films". Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms 115, n.º 1-4 (julio de 1996): 142–45. http://dx.doi.org/10.1016/0168-583x(96)01518-2.
Texto completoGlesener, J. W., J. M. Anthony y A. Cunningham. "Photoluminescence investigation of a-C: H thin films". Diamond and Related Materials 2, n.º 5-7 (abril de 1993): 670–72. http://dx.doi.org/10.1016/0925-9635(93)90201-c.
Texto completoMahdjoubi, L., N. Hadj-Zoubir y M. Benmalek. "Photoelectrical properties of H+ implanted CdS thin films". Thin Solid Films 156, n.º 2 (enero de 1988): L21—L26. http://dx.doi.org/10.1016/0040-6090(88)90332-x.
Texto completoEbel, M. F., H. Ebel, M. Mantler, J. Wernisch, R. Svagera, M. Gazicki, F. Olcaytug, J. Schalko, F. Kohl y A. Jachimowicz. "X-ray analysis of thin GexCyOz: H films". X-Ray Spectrometry 21, n.º 3 (mayo de 1992): 137–42. http://dx.doi.org/10.1002/xrs.1300210308.
Texto completoZhou, Rui, Zhaoyang Zhao, Juanxia Wu y Liming Xie. "Chemical Vapor Deposition of IrTe2 Thin Films". Crystals 10, n.º 7 (3 de julio de 2020): 575. http://dx.doi.org/10.3390/cryst10070575.
Texto completoChen, Yuan-Tsung. "Nanoindentation and Adhesion Properties of Ta Thin Films". Journal of Nanomaterials 2013 (2013): 1–7. http://dx.doi.org/10.1155/2013/154179.
Texto completoMisra, A., H. Kung, T. E. Mitchell y M. Nastasi. "Residual stresses in polycrystalline Cu/Cr multilayered thin films". Journal of Materials Research 15, n.º 3 (marzo de 2000): 756–63. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.2000.0109.
Texto completoWu, H. Z., T. C. Chou, A. Mishra, D. R. Anderson, J. K. Lampert y S. C. Gujrathi. "Characterization of titanium nitride thin films". Thin Solid Films 191, n.º 1 (octubre de 1990): 55–67. http://dx.doi.org/10.1016/0040-6090(90)90274-h.
Texto completoXiaoli, Xiang, Hou Lisong y Gan Fuxi. "Sol-gel derived BaTiO3 thin films". Vacuum 42, n.º 16 (1991): 1057–58. http://dx.doi.org/10.1016/0042-207x(91)91324-h.
Texto completoVretenar, Petar. "Mechanical stresses in oxide thin films". Vacuum 43, n.º 5-7 (mayo de 1992): 727–29. http://dx.doi.org/10.1016/0042-207x(92)90119-h.
Texto completoFaria, I. C., R. Torresi y A. Gorenstein. "Electrochemical intercalation in NiOx thin films". Electrochimica Acta 38, n.º 18 (diciembre de 1993): 2765–71. http://dx.doi.org/10.1016/0013-4686(93)85096-h.
Texto completoHASANAIN, S. K. y UZMA KHALIQUE. "FLUX DYNAMICS IN YBCO THIN FILMS". Modern Physics Letters B 14, n.º 27n28 (10 de diciembre de 2000): 949–59. http://dx.doi.org/10.1142/s0217984900001099.
Texto completoWang, Xiao-Dong, K. W. Hipps, J. T. Dickinso y Ursula Mazur. "Amorphous or nanocrystalline AlN thin films formed from AlN: H". Journal of Materials Research 9, n.º 6 (junio de 1994): 1449–55. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1994.1449.
Texto completoSong, Lin, Volker Körstgens, David Magerl, Bo Su, Thomas Fröschl, Nicola Hüsing, Sigrid Bernstorff y Peter Müller-Buschbaum. "Low-Temperature Fabrication of Mesoporous Titania Thin Films". MRS Advances 2, n.º 43 (2017): 2315–25. http://dx.doi.org/10.1557/adv.2017.406.
Texto completoWang, Sheng Zhao, Ying Peng Yin, Chun Juan Nan y Ming Ji Shi. "Influence of Substrate on μc-Si: H Thin Films". Key Engineering Materials 538 (enero de 2013): 169–72. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.538.169.
Texto completoHan, Hyeon, Donghoon Kim, Sangmin Chae, Jucheol Park, Sang Yeol Nam, Mingi Choi, Kijung Yong, Hyo Jung Kim, Junwoo Son y Hyun Myung Jang. "Switchable ferroelectric photovoltaic effects in epitaxial h-RFeO3 thin films". Nanoscale 10, n.º 27 (2018): 13261–69. http://dx.doi.org/10.1039/c7nr08666k.
Texto completoScarminio, J., W. Estrada, A. Andersson, A. Gorenstein y F. Decker. "H Insertion and Electrochromism in NiO x Thin Films". Journal of The Electrochemical Society 139, n.º 5 (1 de mayo de 1992): 1236–39. http://dx.doi.org/10.1149/1.2069389.
Texto completoBorsa, D. M., A. Baldi, M. Pasturel, H. Schreuders, B. Dam, R. Griessen, P. Vermeulen y P. H. L. Notten. "Mg–Ti–H thin films for smart solar collectors". Applied Physics Letters 88, n.º 24 (12 de junio de 2006): 241910. http://dx.doi.org/10.1063/1.2212287.
Texto completoHawley, M. E., G. W. Brown, P. C. Yashar y C. Kwon. "H-dependent magnetic domain structures in La0.67Sr0.33MnO3 thin films". Journal of Crystal Growth 211, n.º 1-4 (abril de 2000): 86–92. http://dx.doi.org/10.1016/s0022-0248(99)00849-0.
Texto completoBao, Shanhu, Yasusei Yamada, Kazuki Tajima, Ping Jin, Masahisa Okada y Kazuki Yoshimura. "Switchable mirror based on Mg–Zr–H thin films". Journal of Alloys and Compounds 513 (febrero de 2012): 495–98. http://dx.doi.org/10.1016/j.jallcom.2011.10.098.
Texto completoBaldi, A., D. M. Borsa, H. Schreuders, J. H. Rector, T. Atmakidis, M. Bakker, H. A. Zondag, W. G. J. van Helden, B. Dam y R. Griessen. "Mg–Ti–H thin films as switchable solar absorbers". International Journal of Hydrogen Energy 33, n.º 12 (junio de 2008): 3188–92. http://dx.doi.org/10.1016/j.ijhydene.2008.01.026.
Texto completoHerrero, J. y M. T. Gutiérrez. "Photoelectrochemical measurements of amorphous silicon thin films". Electrochimica Acta 36, n.º 5-6 (enero de 1991): 915–20. http://dx.doi.org/10.1016/0013-4686(91)85294-h.
Texto completoRobinet, S., M. Salvi y C. Clarisse. "Ionic implantation in scandium diphthalocyanine thin films". Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms 53, n.º 1 (enero de 1991): 46–52. http://dx.doi.org/10.1016/0168-583x(91)95443-h.
Texto completoGibson, U. J. "Low energy ion modification of thin films". Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms 74, n.º 1-2 (abril de 1993): 322–25. http://dx.doi.org/10.1016/0168-583x(93)95069-h.
Texto completoWingert, D. y D. Stauffer. "Monte Carlo simulation of thin Ising films". Physica A: Statistical Mechanics and its Applications 219, n.º 1-2 (septiembre de 1995): 135–40. http://dx.doi.org/10.1016/0378-4371(95)00199-h.
Texto completoDhumure, S. S. y C. D. Lokhande. "Solution growth of silver sulphide thin films". Materials Chemistry and Physics 27, n.º 3 (marzo de 1991): 321–24. http://dx.doi.org/10.1016/0254-0584(91)90128-h.
Texto completoRosaiah, P. y O. M. Hussain. "Microstructural and Electrochemical Properties of rf-Sputtered LiFeO2 Thin Films". Journal of Nanoscience 2014 (13 de marzo de 2014): 1–6. http://dx.doi.org/10.1155/2014/173845.
Texto completoHu, Chih-Wei, Yasusei Yamada y Kazuki Yoshimura. "Fabrication of nickel oxyhydroxide/palladium (NiOOH/Pd) thin films for gasochromic application". Journal of Materials Chemistry C 4, n.º 23 (2016): 5390–97. http://dx.doi.org/10.1039/c6tc01541g.
Texto completoHellgren, Niklas, Nian Lin, Esteban Broitman, Virginie Serin, Stefano E. Grillo, Ray Twesten, Ivan Petrov, Christian Colliex, Lars Hultman y Jan-Eric Sundgren. "Thermal stability of carbon nitride thin films". Journal of Materials Research 16, n.º 11 (noviembre de 2001): 3188–201. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.2001.0440.
Texto completoMiceli, P. F., H. Zabel, J. A. Dura y C. P. Flynn. "Anomalous lattice expansion of metal-hydrogen thin films". Journal of Materials Research 6, n.º 5 (mayo de 1991): 964–68. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1991.0964.
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Texto completoKITA, R., Y. MATSU, Y. MASUDA y S. YANO. "STABILIZATION AGAINST RESISTANCE DEGRADATION OF SrTiO3 THIN FILMS BY Er DOPING". Modern Physics Letters B 13, n.º 27 (20 de noviembre de 1999): 983–89. http://dx.doi.org/10.1142/s0217984999001202.
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