Artículos de revistas sobre el tema "Enhancement Mode HEMTs"
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Wang, Chih Hao, Liang Yu Su, Finella Lee y Jian Jang Huang. "Applications of GaN-Based High Electron Mobility Transistors in Large-Size Devices". Applied Mechanics and Materials 764-765 (mayo de 2015): 486–90. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amm.764-765.486.
Texto completoSohn, Y. J., B. H. Lee, M. Y. Jeong y Y. H. Jeong. "Enhancement mode Al0.25Ga0.75As/In0.2Ga0.8As nanowire HEMTs". Electronics Letters 37, n.º 5 (2001): 322. http://dx.doi.org/10.1049/el:20010208.
Texto completoChvála, Aleš, Lukáš Nagy, Juraj Marek, Juraj Priesol, Daniel Donoval, Alexander Šatka, Michal Blaho, Dagmar Gregušová y Ján Kuzmík. "Device and Circuit Models of Monolithic InAlN/GaN NAND and NOR Logic Cells Comprising D- and E-Mode HEMTs". Journal of Circuits, Systems and Computers 28, supp01 (1 de diciembre de 2019): 1940009. http://dx.doi.org/10.1142/s0218126619400097.
Texto completoZhong, Min, Ying Xi Niu, Hai Ying Cheng, Chen Xi Yan, Zhi Yuan Liu y Dong Bo Song. "Advances for Enhanced GaN-Based HEMT Devices with p-GaN Gate". Materials Science Forum 1014 (noviembre de 2020): 75–85. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.1014.75.
Texto completoShuo Jia, Yong Cai, Deliang Wang, Baoshun Zhang, K. M. Lau y K. J. Chen. "Enhancement-mode AlGaN/GaN HEMTs on silicon substrate". IEEE Transactions on Electron Devices 53, n.º 6 (junio de 2006): 1474–77. http://dx.doi.org/10.1109/ted.2006.873881.
Texto completoJia, Shuo, Yong Cai, Deliang Wang, Baoshun Zhang, Kei May Lau y Kevin J. Chen. "Enhancement-mode AlGaN/GaN HEMTs on silicon substrate". physica status solidi (c) 3, n.º 6 (junio de 2006): 2368–72. http://dx.doi.org/10.1002/pssc.200565119.
Texto completoEisenbeiser, K., R. Droopad y Jenn-Hwa Huang. "Metamorphic InAlAs/InGaAs enhancement mode HEMTs on GaAs substrates". IEEE Electron Device Letters 20, n.º 10 (octubre de 1999): 507–9. http://dx.doi.org/10.1109/55.791925.
Texto completoLee, Jaesun, Dongmin Liu, Zhaojun Lin, Wu Lu, Jeffrey S. Flynn y George R. Brandes. "Quasi-enhancement mode AlGaN/GaN HEMTs on sapphire substrate". Solid-State Electronics 47, n.º 11 (noviembre de 2003): 2081–84. http://dx.doi.org/10.1016/s0038-1101(03)00245-4.
Texto completoKumar, V., A. Kuliev, T. Tanaka, Y. Otoki y I. Adesida. "High transconductance enhancement-mode AlGaN∕GaN HEMTs on SiC substrate". Electronics Letters 39, n.º 24 (2003): 1758. http://dx.doi.org/10.1049/el:20031124.
Texto completoLiu, Shenghou, Yong Cai, Guodong Gu, Jinyan Wang, Chunhong Zeng, Wenhua Shi, Zhihong Feng et al. "Enhancement-Mode Operation of Nanochannel Array (NCA) AlGaN/GaN HEMTs". IEEE Electron Device Letters 33, n.º 3 (marzo de 2012): 354–56. http://dx.doi.org/10.1109/led.2011.2179003.
Texto completoSi, Quan, Hao Yue, Ma Xiaohua, Xie Yuanbin y Ma Jigang. "Enhancement-mode AlGaN/GaN HEMTs fabricated by fluorine plasma treatment". Journal of Semiconductors 30, n.º 12 (diciembre de 2009): 124002. http://dx.doi.org/10.1088/1674-4926/30/12/124002.
Texto completoIto, M., S. Kishimoto, F. Nakamura y T. Mizutani. "Enhancement-mode AlGaN/GaN HEMTs with thin InGaN cap layer". physica status solidi (c) 5, n.º 6 (mayo de 2008): 1929–31. http://dx.doi.org/10.1002/pssc.200778451.
Texto completoTsai, M.-K., S.-W. Tan, Y.-W. Wu, W.-S. Lour y Y.-J. Yang. "Depletion-mode and enhancement-mode InGaP/GaAs -HEMTs for low supply-voltage applications". Semiconductor Science and Technology 17, n.º 2 (11 de enero de 2002): 156–60. http://dx.doi.org/10.1088/0268-1242/17/2/312.
Texto completoChen, Chao y Xing Zhao Liu. "Effects of Low-Energy Electron Irradiation on Enhancement-Mode AlGaN/GaN High-Electron-Mobility Transistors". Advanced Materials Research 774-776 (septiembre de 2013): 876–80. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.774-776.876.
Texto completoWan, Xin, Oliver K. Baker, Michael W. McCurdy, En Xia Zhang, Max Zafrani, Simon P. Wainwright, Jun Xu et al. "Low Energy Proton Irradiation Effects on Commercial Enhancement Mode GaN HEMTs". IEEE Transactions on Nuclear Science 64, n.º 1 (enero de 2017): 253–57. http://dx.doi.org/10.1109/tns.2016.2621065.
Texto completoLin, Yueh Chin, Yu Xiang Huang, Gung Ning Huang, Chia Hsun Wu, Jing Neng Yao, Chung Ming Chu, Shane Chang et al. "Enhancement-Mode GaN MIS-HEMTs With LaHfOxGate Insulator for Power Application". IEEE Electron Device Letters 38, n.º 8 (agosto de 2017): 1101–4. http://dx.doi.org/10.1109/led.2017.2722002.
Texto completoChang, Li-Cheng, Cheng-Jia Dai y Chao-Hsin Wu. "Threshold Voltage Modulation of Enhancement-Mode InGaAs Schottky-Gate Fin-HEMTs". IEEE Electron Device Letters 40, n.º 4 (abril de 2019): 534–37. http://dx.doi.org/10.1109/led.2019.2902349.
Texto completoLu, Yunyou, Shu Yang, Qimeng Jiang, Zhikai Tang, Baikui Li y Kevin J. Chen. "Characterization ofVT-instability in enhancement-mode Al2O3-AlGaN/GaN MIS-HEMTs". physica status solidi (c) 10, n.º 11 (18 de octubre de 2013): 1397–400. http://dx.doi.org/10.1002/pssc.201300270.
Texto completoKang, In-Ho, Jung-Hoon Kim, Won-Bae Kim y Jong-In Song. "Selectively hydrogen-pretreated AlGaAs/InGaAs p-HEMTs and their application to an enhancement/depletion-mode HEMT". Solid-State Electronics 49, n.º 1 (enero de 2005): 19–24. http://dx.doi.org/10.1016/j.sse.2004.07.006.
Texto completoLin, Wei-Tse, Wen-Chia Liao, Yi-Nan Zhong y Yue-ming Hsin. "AlGaN/GaN HEMTs with 2DHG Back Gate Control". MRS Advances 3, n.º 3 (26 de diciembre de 2017): 137–41. http://dx.doi.org/10.1557/adv.2017.619.
Texto completoZhen, Zixin, Chun Feng, Quan Wang, Di Niu, Xiaoliang Wang y Manqing Tan. "Single Event Burnout Hardening of Enhancement Mode HEMTs With Double Field Plates". IEEE Transactions on Nuclear Science 68, n.º 9 (septiembre de 2021): 2358–66. http://dx.doi.org/10.1109/tns.2021.3102980.
Texto completoLee, Chun-Hsun, Wei-Ren Lin, Yu-Hsuan Lee y Jian-Jang Huang. "Characterizations of Enhancement-Mode Double Heterostructure GaN HEMTs With Gate Field Plates". IEEE Transactions on Electron Devices 65, n.º 2 (febrero de 2018): 488–92. http://dx.doi.org/10.1109/ted.2017.2786479.
Texto completoYong Cai, Yugang Zhou, K. J. Chen y K. M. Lau. "High-performance enhancement-mode AlGaN/GaN HEMTs using fluoride-based plasma treatment". IEEE Electron Device Letters 26, n.º 7 (julio de 2005): 435–37. http://dx.doi.org/10.1109/led.2005.851122.
Texto completoMahajan, A., M. Arafa, P. Fay, C. Caneau y I. Adesida. "Enhancement-mode high electron mobility transistors (E-HEMTs) lattice-matched to InP". IEEE Transactions on Electron Devices 45, n.º 12 (1998): 2422–29. http://dx.doi.org/10.1109/16.735718.
Texto completoChiu, Hsien-Chin, Chia-Hsuan Wu, Ji-Fan Chi, J. I. Chyi y G. Y. Lee. "N2O treatment enhancement-mode InAlN/GaN HEMTs with HfZrO2 High-k insulator". Microelectronics Reliability 55, n.º 1 (enero de 2015): 48–51. http://dx.doi.org/10.1016/j.microrel.2014.09.026.
Texto completoAbbate, C., G. Busatto, A. Sanseverino, D. Tedesco y F. Velardi. "Failure mechanisms of enhancement mode GaN power HEMTs operated in short circuit". Microelectronics Reliability 100-101 (septiembre de 2019): 113454. http://dx.doi.org/10.1016/j.microrel.2019.113454.
Texto completoChan, Y. J. y M. T. Yang. "Enhancement and depletion-mode AlGaAs/In0.15Ga0.85As HEMTs fabricated by selective ion implantation". Electronics Letters 29, n.º 25 (1993): 2220. http://dx.doi.org/10.1049/el:19931491.
Texto completoLei, Jianming, Yangyi Liu, Zhanmin Yang, Yalin Chen, Dunjun Chen, Liang Xu y Jing Yu. "An Analytical Model of Dynamic Power Losses in eGaN HEMT Power Devices". Micromachines 14, n.º 8 (18 de agosto de 2023): 1633. http://dx.doi.org/10.3390/mi14081633.
Texto completoAnderson, Travis, Marko Tadjer, Michael Mastro, Jennifer Hite, Karl Hobart, Charles Eddy y Fritz Kub. "Development of Enhancement Mode AlN/Ultrathin AlGaN/GaN HEMTs by Selective Wet Etching". ECS Transactions 28, n.º 4 (17 de diciembre de 2019): 65–70. http://dx.doi.org/10.1149/1.3377101.
Texto completoDumka, D. C., H. Q. Tserng, M. Y. Kao, E. A. Beam y P. Saunier. "High-performance double-recessed enhancement-mode metamorphic HEMTs on 4-in GaAs substrates". IEEE Electron Device Letters 24, n.º 3 (marzo de 2003): 135–37. http://dx.doi.org/10.1109/led.2003.809048.
Texto completoCAI, Y. "Enhancement-Mode AlGaN/GaN HEMTs with Low On-Resistance and Low Knee-Voltage". IEICE Transactions on Electronics E89-C, n.º 7 (1 de julio de 2006): 1025–30. http://dx.doi.org/10.1093/ietele/e89-c.7.1025.
Texto completoLi, He, Xiao Li, Xiaodan Wang, Xintong Lyu, Haiwei Cai, Yazan M. Alsmadi, Liming Liu, Sandeep Bala y Jin Wang. "Robustness of 650-V Enhancement-Mode GaN HEMTs Under Various Short-Circuit Conditions". IEEE Transactions on Industry Applications 55, n.º 2 (marzo de 2019): 1807–16. http://dx.doi.org/10.1109/tia.2018.2879289.
Texto completoAdak, Sarosij, Sanjit Kumar Swain, Hafizur Rahaman y Chandan Kumar Sarkar. "Impact of gate engineering in enhancement mode n++GaN/InAlN/AlN/GaN HEMTs". Superlattices and Microstructures 100 (diciembre de 2016): 306–14. http://dx.doi.org/10.1016/j.spmi.2016.09.025.
Texto completoDong, Yan, Zili Xie, Dunjun Chen, Hai Lu, Rong Zhang y Youdou Zheng. "Effects of dissipative substrate on the performances of enhancement mode AlInN/GaN HEMTs". International Journal of Numerical Modelling: Electronic Networks, Devices and Fields 32, n.º 1 (31 de agosto de 2018): e2482. http://dx.doi.org/10.1002/jnm.2482.
Texto completoGao, Tao, Ruimin Xu, Yuechan Kong, Jianjun Zhou, Kai Zhang, Cen Kong, Daqing Peng y Tangsheng Chen. "Integrated enhancement/depletion-mode GaN MIS-HEMTs for high-speed mixed-signal applications". physica status solidi (a) 213, n.º 5 (3 de febrero de 2016): 1241–45. http://dx.doi.org/10.1002/pssa.201532805.
Texto completoBi, Lan, Yixu Yao, Qimeng Jiang, Sen Huang, Xinhua Wang, Hao Jin, Xinyue Dai et al. "Instability of parasitic capacitance in T-shape-gate enhancement-mode AlGaN/GaN MIS-HEMTs". Journal of Semiconductors 43, n.º 3 (1 de marzo de 2022): 032801. http://dx.doi.org/10.1088/1674-4926/43/3/032801.
Texto completoМихайлович, С. В., А. Ю. Павлов, К. Н. Томош y Ю. В. Федоров. "Низкоэнергетическое бездефектное сухое травление барьерного слоя HEMT AlGaN/AlN/GaN". Письма в журнал технической физики 44, n.º 10 (2018): 61. http://dx.doi.org/10.21883/pjtf.2018.10.46100.17227.
Texto completoEfthymiou, Loizos, Gianluca Camuso, Giorgia Longobardi, Terry Chien, Max Chen y Florin Udrea. "On the Source of Oscillatory Behaviour during Switching of Power Enhancement Mode GaN HEMTs". Energies 10, n.º 3 (21 de marzo de 2017): 407. http://dx.doi.org/10.3390/en10030407.
Texto completoChen, K. J., M. Yamamoto, K. Arai, K. Maezawa y T. Enoki. "Improved source resistance in InP-based enhancement-mode HEMTs for high speed digital applications". Electronics Letters 31, n.º 11 (25 de mayo de 1995): 925–27. http://dx.doi.org/10.1049/el:19950603.
Texto completoMahajan, A., P. Fay, C. Caneau y I. Adesida. "High performance enhancement mode high electron mobility transistors (E-HEMTs) lattice matched to InP". Electronics Letters 32, n.º 11 (1996): 1037. http://dx.doi.org/10.1049/el:19960652.
Texto completoKwan, Alex Man Ho y Kevin J. Chen. "A Gate Overdrive Protection Technique for Improved Reliability in AlGaN/GaN Enhancement-Mode HEMTs". IEEE Electron Device Letters 34, n.º 1 (enero de 2013): 30–32. http://dx.doi.org/10.1109/led.2012.2224632.
Texto completoChen, C. H., C. W. Yang, H. C. Chiu y Jeffrey S. Fu. "Characteristic comparison of AlGaN/GaN enhancement-mode HEMTs with CHF3 and CF4 surface treatment". Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena 30, n.º 2 (marzo de 2012): 021201. http://dx.doi.org/10.1116/1.3680115.
Texto completoJatal, Wael, Uwe Baumann, Heiko O. Jacobs, Frank Schwierz y Jörg Pezoldt. "Enhancement- and depletion-mode AlGaN/GaN HEMTs on 3C-SiC(111)/Si(111) pseudosubstrates". physica status solidi (a) 214, n.º 4 (24 de febrero de 2017): 1600415. http://dx.doi.org/10.1002/pssa.201600415.
Texto completoLi, Z., K. Tang, T. P. Chow, M. Sugimoto, T. Uesugi y T. Kachi. "Design and simulations of novel enhancement-mode high-voltage GaN vertical hybrid MOS-HEMTs". physica status solidi (c) 7, n.º 7-8 (10 de junio de 2010): 1944–48. http://dx.doi.org/10.1002/pssc.200983460.
Texto completoNanjo, Takuma, Takashi Imazawa, Akira Kiyoi, Tetsuro Hayashida, Tatsuro Watahiki y Naruhisa Miura. "Design and demonstration of EID MOS-HEMTs on Si substrate with normally depleted AlGaN/GaN epitaxial layer". Japanese Journal of Applied Physics 61, SC (9 de febrero de 2022): SC1015. http://dx.doi.org/10.35848/1347-4065/ac3dca.
Texto completoWu, Tian-Li, Shun-Wei Tang y Hong-Jia Jiang. "Investigation of Recessed Gate AlGaN/GaN MIS-HEMTs with Double AlGaN Barrier Designs toward an Enhancement-Mode Characteristic". Micromachines 11, n.º 2 (3 de febrero de 2020): 163. http://dx.doi.org/10.3390/mi11020163.
Texto completoChiu, Hsien-Chin, Chia-Hao Liu, Chong-Rong Huang, Chi-Chuan Chiu, Hsiang-Chun Wang, Hsuan-Ling Kao, Shinn-Yn Lin y Feng-Tso Chien. "Normally-Off p-GaN Gated AlGaN/GaN MIS-HEMTs with ALD-Grown Al2O3/AlN Composite Gate Insulator". Membranes 11, n.º 10 (23 de septiembre de 2021): 727. http://dx.doi.org/10.3390/membranes11100727.
Texto completoLu, Lucas, Guanliang Liu y Kevin Bai. "Critical transient processes of enhancement-mode GaN HEMTs in high-efficiency and high-reliability applications". CES Transactions on Electrical Machines and Systems 1, n.º 3 (septiembre de 2017): 283–91. http://dx.doi.org/10.23919/tems.2017.8086107.
Texto completoShen, Feiyu, Ronghui Hao, Liang Song, Fu Chen, Guohao Yu, Xiaodong Zhang, Yaming Fan, Fujiang Lin, Yong Cai y Baoshun Zhang. "Enhancement mode AlGaN/GaN HEMTs by fluorine ion thermal diffusion with high V th stability". Applied Physics Express 12, n.º 6 (14 de mayo de 2019): 066501. http://dx.doi.org/10.7567/1882-0786/ab1cfa.
Texto completoLi, Yuan, Yuanfu Zhao, Alex Q. Huang, Liqi Zhang, Qingyun Huang, Ruiyang Yu, Soumik Sen, Qingxuan Ma y Yunlong He. "Temperature‐dependent dynamic R DS,ON under different operating conditions in enhancement‐mode GaN HEMTs". IET Power Electronics 13, n.º 3 (febrero de 2020): 456–62. http://dx.doi.org/10.1049/iet-pel.2019.0540.
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