Artículos de revistas sobre el tema "Contact resistance"
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Texto completoKrutova, Y. A. "Contact resistance of rectangular contact". Челябинский физико-математический журнал 6, n.º 2 (2021): 162–71. http://dx.doi.org/10.47475/2500-0101-2021-16203.
Texto completoYe, Gangfeng, Kelvin Shi, Robert Burke, Joan M. Redwing y Suzanne E. Mohney. "Ti/Al Ohmic Contacts to n-Type GaN Nanowires". Journal of Nanomaterials 2011 (2011): 1–6. http://dx.doi.org/10.1155/2011/876287.
Texto completoRen, Wanbin, Yu Chen, Zhaobin Wang, Shengjun Xue y Xu Zhang. "Electrical Contact Resistance of Coated Spherical Contacts". IEEE Transactions on Electron Devices 63, n.º 11 (noviembre de 2016): 4373–79. http://dx.doi.org/10.1109/ted.2016.2612545.
Texto completoNorberg, G., S. Dejanovic y H. Hesselbom. "Contact resistance of thin metal film contacts". IEEE Transactions on Components and Packaging Technologies 29, n.º 2 (junio de 2006): 371–78. http://dx.doi.org/10.1109/tcapt.2006.875891.
Texto completoCrofton, John, John R. Williams, A. V. Adedeji, James D. Scofield, S. Dhar, Leonard C. Feldman y M. J. Bozack. "Ohmic Contacts to P-Type Epitexial and Imlanted 4H-SiC". Materials Science Forum 527-529 (octubre de 2006): 895–98. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.527-529.895.
Texto completoHemant Kagra, Hemant Kagra. "Impact of Surface Film on Electrical Contact Resistance of Silver Impregnated Graphite Contacts". Indian Journal of Applied Research 3, n.º 5 (1 de octubre de 2011): 234–37. http://dx.doi.org/10.15373/2249555x/may2013/71.
Texto completoGracheva, E. I., A. N. Gorlov, A. N. Alimova y P. P. Mukhanova. "Resistance change of contact groups of low-voltage electrical apparatus: Determining the laws". Vestnik MGTU 24, n.º 4 (30 de diciembre de 2021): 350–60. http://dx.doi.org/10.21443/1560-9278-2021-24-4-350-360.
Texto completoSpiesser, A., R. Jansen, H. Saito y S. Yuasa. "Optimum contact resistance for two-terminal magnetoresistance in a lateral spin valve". Applied Physics Letters 122, n.º 6 (6 de febrero de 2023): 062407. http://dx.doi.org/10.1063/5.0137482.
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Texto completoMuzychka, Y. S., M. R. Sridhar, M. M. Yovanovich y V. W. Antonetti. "Thermal Spreading Resistance in Multilayered Contacts: Applications in Thermal Contact Resistance". Journal of Thermophysics and Heat Transfer 13, n.º 4 (octubre de 1999): 489–94. http://dx.doi.org/10.2514/2.6466.
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Texto completoHertel, Stefan, Andreas Finkler, Michael Krieger y Heiko B. Weber. "Graphene Ohmic Contacts to n-Type Silicon Carbide (0001)". Materials Science Forum 821-823 (junio de 2015): 933–36. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.821-823.933.
Texto completoWang, S. C. y P. S. Wei. "Modeling Dynamic Electrical Resistance During Resistance Spot Welding". Journal of Heat Transfer 123, n.º 3 (28 de noviembre de 2000): 576–85. http://dx.doi.org/10.1115/1.1370502.
Texto completoBahrami, M., J. R. Culham y M. M. Yovanovich. "Modeling Thermal Contact Resistance: A Scale Analysis Approach". Journal of Heat Transfer 126, n.º 6 (1 de diciembre de 2004): 896–905. http://dx.doi.org/10.1115/1.1795238.
Texto completoShtern M. Yu., Karavaev I. S., Rogachev M. S., Shtern Yu. I., Mustafoev B. R., Korchagin E. P. y Kozlov A. O. "Methods for investigation of electrical contact resistance in a metal film--semiconductor structure". Semiconductors 56, n.º 1 (2022): 24. http://dx.doi.org/10.21883/sc.2022.01.53115.24.
Texto completoMo, Yun y Sumie Segawa. "THERMAL CONTACT RESISTANCE MEASUREMENTS". Journal of Enhanced Heat Transfer 19, n.º 6 (2012): 561–69. http://dx.doi.org/10.1615/jenhheattransf.2012006005.
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Texto completoLee, Jaehyeok, Hyeongmin Cho, Bongju Kim, Myoungho Jeong, Kiyoung Lee y Kookrin Char. "Low resistance epitaxial edge contacts to buried nanometer thick conductive layers of BaSnO3". Applied Physics Letters 121, n.º 14 (3 de octubre de 2022): 142102. http://dx.doi.org/10.1063/5.0116527.
Texto completoChen, J. J., Soohwan Jang, T. J. Anderson, F. Ren, Yuanjie Li, Hyun-Sik Kim, B. P. Gila, D. P. Norton y S. J. Pearton. "Low specific contact resistance Ti∕Au contacts on ZnO". Applied Physics Letters 88, n.º 12 (20 de marzo de 2006): 122107. http://dx.doi.org/10.1063/1.2187576.
Texto completoFastow, R. "Contact resistance and noise of Sn/In/HgCdTe contacts". Solid-State Electronics 35, n.º 7 (julio de 1992): 1025–26. http://dx.doi.org/10.1016/0038-1101(92)90338-d.
Texto completoKempers, R., A. J. Robinson y A. Lyons. "Characterization of Thermal Contact Resistance in Metal Micro-Textured Thermal Interface Materials Using Electrical Contact Resistance Measurements". Defect and Diffusion Forum 297-301 (abril de 2010): 1190–98. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ddf.297-301.1190.
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Texto completoLee, Sangyoung, Hyun Cho y Yong Hoon Jang. "Multiscale electrical contact resistance in clustered contact distribution". Journal of Physics D: Applied Physics 43, n.º 24 (3 de junio de 2010): 249801. http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/43/24/c01.
Texto completoLee, Sangyoung, Hyun Cho y Yong Hoon Jang. "Multiscale electrical contact resistance in clustered contact distribution". Journal of Physics D: Applied Physics 42, n.º 16 (22 de julio de 2009): 165302. http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/42/16/165302.
Texto completoTAMAI, T. "Friction and Contact Resistance through True Contact Interface". IEICE Transactions on Electronics E89-C, n.º 8 (1 de agosto de 2006): 1122–28. http://dx.doi.org/10.1093/ietele/e89-c.8.1122.
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Texto completoYAKUBOV, A., A. SHERCHENKOV, P. LAZARENKO, A. BABICH, D. TEREKHOV y A. DEDKOVA. "CONTACT RESISTANCE MEASUREMENTS FOR THE Ge2Sb2Te5 THIN FILMS". Chalcogenide Letters 17, n.º 1 (enero de 2020): 1–8. http://dx.doi.org/10.15251/cl.2020.171.1.
Texto completoVANDAMME, L. K. J. "CHARACTERIZATION OF CONTACT INTERFACE, FILM SHEET RESISTANCE AND 1/f NOISE WITH CIRCULAR CONTACTS". Fluctuation and Noise Letters 10, n.º 04 (diciembre de 2011): 467–84. http://dx.doi.org/10.1142/s0219477511000740.
Texto completoTadjer, Marko J., Travis J. Anderson, Karl D. Hobart, Tatyana I. Feygelson, James E. Butler y Fritz J. Kub. "Comparative Study of Ohmic Contact Metallizations to Nanocrystalline Diamond Films". Materials Science Forum 645-648 (abril de 2010): 733–35. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.645-648.733.
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