Artículos de revistas sobre el tema "A-SiOx:H Thin Films"
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Alfonsetti, R., L. Lozzi, M. Passacantando, P. Picozzi y S. Santucci. "Determination of stoichiometry of SiOx thin films using an Auger parameter". Thin Solid Films 213, n.º 2 (junio de 1992): 158–59. http://dx.doi.org/10.1016/0040-6090(92)90276-h.
Texto completoZamchiy, Alexandr, Evgeniy Baranov, Sergey Khmel y Marat Sharafutdinov. "Effect of annealing time on aluminum-induced crystallization of silicon suboxide thin films". EPJ Web of Conferences 196 (2019): 00039. http://dx.doi.org/10.1051/epjconf/201919600039.
Texto completoNagatomi, Y., S. Yoshidomi, M. Hasumi, T. Sameshima y A. Kohno. "Formation of Aluminum Oxide Films on Silicon Surface by Aluminum Evaporation in Oxygen Gas Atmosphere". MRS Proceedings 1426 (2012): 421–26. http://dx.doi.org/10.1557/opl.2012.868.
Texto completoGlesener, J. W., J. M. Anthony y A. Cunningham. "Photoluminescence investigation of a-C: H thin films". Diamond and Related Materials 2, n.º 5-7 (abril de 1993): 670–72. http://dx.doi.org/10.1016/0925-9635(93)90201-c.
Texto completoLabrador, Natalie Yumiko y Daniel V. Esposito. "(Invited) Multifunctional Membrane Coated Electrocatalysts". ECS Meeting Abstracts MA2018-01, n.º 31 (13 de abril de 2018): 1875. http://dx.doi.org/10.1149/ma2018-01/31/1875.
Texto completoRahman, Mujib Ur, Yonghao Xi, Haipeng Li, Fei Chen, Dongjie Liu y Jinjia Wei. "Dynamics and Structure Formation of Confined Polymer Thin Films Supported on Solid Substrates". Polymers 13, n.º 10 (17 de mayo de 2021): 1621. http://dx.doi.org/10.3390/polym13101621.
Texto completoVanek, J., V. Cech, R. Prikryl, J. Zemek y V. Perina. "Basic characteristics of the a-SiOC∶H thin films prepared by PE CVD". Czechoslovak Journal of Physics 54, S3 (marzo de 2004): C937—C942. http://dx.doi.org/10.1007/bf03166511.
Texto completoNagai, Hiroki, Naoki Ogawa y Mitsunobu Sato. "Deep-Ultraviolet Transparent Conductive MWCNT/SiO2 Composite Thin Film Fabricated by UV Irradiation at Ambient Temperature onto Spin-Coated Molecular Precursor Film". Nanomaterials 11, n.º 5 (20 de mayo de 2021): 1348. http://dx.doi.org/10.3390/nano11051348.
Texto completoSingh, Sarab Preet y Pankaj Srivastava. "Recent Progress in the Understanding of Si-Nanostructures Formation in a-SiNx:H Thin Film for Si-Based Optoelectronic Devices". Solid State Phenomena 171 (mayo de 2011): 1–17. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.171.1.
Texto completoLU, WANBING, SHAOGANG GUO, JIANTAO WANG, YUN LI, XINZHAN WANG, GENGXI YU, SHANSHAN FAN y GUANGSHENG FU. "MICROSTRUCTURAL PROPERTIES OF NC-Si/SiO2 FILMS IN SITU GROWN BY REACTIVE MAGNETRON CO-SPUTTERING". International Journal of Nanoscience 11, n.º 06 (diciembre de 2012): 1240035. http://dx.doi.org/10.1142/s0219581x12400352.
Texto completoBurlaka, Vladimir, Kai Nörthemann y Astrid Pundt. "Nb-H Thin Films: On Phase Transformation Kinetics". Defect and Diffusion Forum 371 (febrero de 2017): 160–65. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ddf.371.160.
Texto completoLoboda, M. J., C. M. Grove y R. F. Schneider. "Properties of a ‐ SiO x : H Thin Films Deposited from Hydrogen Silsesquioxane Resins". Journal of The Electrochemical Society 145, n.º 8 (1 de agosto de 1998): 2861–66. http://dx.doi.org/10.1149/1.1838726.
Texto completoZhang, Xiao-Ying, Yue Yang, Zhi-Xuan Zhang, Xin-Peng Geng, Chia-Hsun Hsu, Wan-Yu Wu, Shui-Yang Lien y Wen-Zhang Zhu. "Deposition and Characterization of RP-ALD SiO2 Thin Films with Different Oxygen Plasma Powers". Nanomaterials 11, n.º 5 (29 de abril de 2021): 1173. http://dx.doi.org/10.3390/nano11051173.
Texto completoMarteau, Baptiste, Thibaut Desrues, Quentin Rafhay, Anne Kaminski y Sébastien Dubois. "Passivating Silicon Tunnel Diode for Perovskite on Silicon Nip Tandem Solar Cells". Energies 16, n.º 11 (26 de mayo de 2023): 4346. http://dx.doi.org/10.3390/en16114346.
Texto completoPrado, R. J., D. R. S. Bittencourt, M. H. Tabacniks, M. C. A. Fantini, M. N. P. Carreño y I. Pereyra. "Distribution of Pores in a-Si1−x C x :H Thin Films". Journal of Applied Crystallography 30, n.º 5 (1 de octubre de 1997): 659–63. http://dx.doi.org/10.1107/s0021889897001349.
Texto completoHattori, Yoshiaki, Takashi Taniguchi, Kenji Watanabe y Masatoshi Kitamura. "Visualization of a hexagonal boron nitride monolayer on an ultra-thin gold film via reflected light microscopy". Nanotechnology 33, n.º 6 (15 de noviembre de 2021): 065702. http://dx.doi.org/10.1088/1361-6528/ac3357.
Texto completoViard, J., E. Beche, J. Durand y R. Berjoan. "SiH bonding environment in PECVD a-SiOxNy:H thin films". Journal of the European Ceramic Society 17, n.º 15-16 (enero de 1997): 2029–32. http://dx.doi.org/10.1016/s0955-2219(97)00083-6.
Texto completode O. Graeff, C. F., F. L. Freire y I. Chambouleyron. "Hydrogen diffusion in RF-sputtered a-Ge: H thin films". Journal of Non-Crystalline Solids 137-138 (enero de 1991): 41–44. http://dx.doi.org/10.1016/s0022-3093(05)80052-3.
Texto completoEl Khakani, M. A., M. Chaker, A. Jean, S. Boily, J. C. Kieffer, M. E. O'Hern, M. F. Ravet y F. Rousseaux. "Hardness and Young's modulus of amorphous a-SiC thin films determined by nanoindentation and bulge tests". Journal of Materials Research 9, n.º 1 (enero de 1994): 96–103. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1994.0096.
Texto completoZhou, Rui, Zhaoyang Zhao, Juanxia Wu y Liming Xie. "Chemical Vapor Deposition of IrTe2 Thin Films". Crystals 10, n.º 7 (3 de julio de 2020): 575. http://dx.doi.org/10.3390/cryst10070575.
Texto completoChen, Yuan-Tsung. "Nanoindentation and Adhesion Properties of Ta Thin Films". Journal of Nanomaterials 2013 (2013): 1–7. http://dx.doi.org/10.1155/2013/154179.
Texto completoShin, Dae Yong y Kyung Nam Kim. "Effective of SiO2 Addition on the Self-Cleaning and Photocatalytic Properties of TiO2 Films by Sol-Gel Process". Materials Science Forum 620-622 (abril de 2009): 679–82. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.620-622.679.
Texto completoRüther, R. y J. Livingstone. "An infrared study of SiH cluster formation in a-Si: H thin films". Infrared Physics & Technology 37, n.º 4 (junio de 1996): 533–37. http://dx.doi.org/10.1016/s1350-4495(95)00082-8.
Texto completoMisra, A., H. Kung, T. E. Mitchell y M. Nastasi. "Residual stresses in polycrystalline Cu/Cr multilayered thin films". Journal of Materials Research 15, n.º 3 (marzo de 2000): 756–63. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.2000.0109.
Texto completoKLAUS, J. W., O. SNEH, A. W. OTT y S. M. GEORGE. "ATOMIC LAYER DEPOSITION OF SiO2 USING CATALYZED AND UNCATALYZED SELF-LIMITING SURFACE REACTIONS". Surface Review and Letters 06, n.º 03n04 (junio de 1999): 435–48. http://dx.doi.org/10.1142/s0218625x99000433.
Texto completoLee, Hean Ju, Kyoung Suk Oh y Chi Kyu Choi. "The mechanical properties of the SiOC(H) composite thin films with a low dielectric constant". Surface and Coatings Technology 171, n.º 1-3 (julio de 2003): 296–301. http://dx.doi.org/10.1016/s0257-8972(03)00289-5.
Texto completoHASANAIN, S. K. y UZMA KHALIQUE. "FLUX DYNAMICS IN YBCO THIN FILMS". Modern Physics Letters B 14, n.º 27n28 (10 de diciembre de 2000): 949–59. http://dx.doi.org/10.1142/s0217984900001099.
Texto completoWang, Xiao-Dong, K. W. Hipps, J. T. Dickinso y Ursula Mazur. "Amorphous or nanocrystalline AlN thin films formed from AlN: H". Journal of Materials Research 9, n.º 6 (junio de 1994): 1449–55. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1994.1449.
Texto completoMota-Santiago, P., A. Nadzri, F. Kremer, T. Bierschenk, C. E. Canto, M. D. Rodriguez, C. Notthoff, S. Mudie y P. Kluth. "Characterisation of silicon oxynitride thin films and their response to swift heavy-ion irradiation". Journal of Physics D: Applied Physics 55, n.º 14 (10 de enero de 2022): 145301. http://dx.doi.org/10.1088/1361-6463/ac45b1.
Texto completoTerekhov, Vladimir A., Evgeny I. Terukov, Yury K. Undalov, Konstantin A. Barkov, Igor E. Zanin, Oleg V. Serbin y Irina N. Trapeznikova. "Structural Rearrangement of a-SiOx:H Films with Pulse Photon Annealing". Kondensirovannye sredy i mezhfaznye granitsy = Condensed Matter and Interphases 22, n.º 4 (15 de diciembre de 2020): 489–95. http://dx.doi.org/10.17308/kcmf.2020.22/3119.
Texto completoBayley, P. A. y J. M. Marshall. "Transient photoconductivity in a-Si1−x C x :H thin films". Philosophical Magazine B 73, n.º 3 (marzo de 1996): 429–44. http://dx.doi.org/10.1080/13642819608239127.
Texto completoGuo, Zi-Hao, Na Ai, Connor Ryan McBroom, Tianyu Yuan, Yen-Hao Lin, Michael Roders, Congzhi Zhu, Alexander L. Ayzner, Jian Pei y Lei Fang. "A side-chain engineering approach to solvent-resistant semiconducting polymer thin films". Polymer Chemistry 7, n.º 3 (2016): 648–55. http://dx.doi.org/10.1039/c5py01669j.
Texto completoSong, Lin, Volker Körstgens, David Magerl, Bo Su, Thomas Fröschl, Nicola Hüsing, Sigrid Bernstorff y Peter Müller-Buschbaum. "Low-Temperature Fabrication of Mesoporous Titania Thin Films". MRS Advances 2, n.º 43 (2017): 2315–25. http://dx.doi.org/10.1557/adv.2017.406.
Texto completoHu, Chih-Wei, Yasusei Yamada y Kazuki Yoshimura. "Fabrication of nickel oxyhydroxide/palladium (NiOOH/Pd) thin films for gasochromic application". Journal of Materials Chemistry C 4, n.º 23 (2016): 5390–97. http://dx.doi.org/10.1039/c6tc01541g.
Texto completoYang, Chang Sil, Heon Ju Lee y Chi Kyu Choi. "Formation and Characteristics of the Low Dielectric Carbon Doped Silicon Oxide Thin Film Deposited by MTMS/O2 – ICPCVD". Solid State Phenomena 107 (octubre de 2005): 103–6. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.107.103.
Texto completoMu, Wen Ning, Shuang Zhi Shi y Xiu Yu Yang. "Preparation of TiO2 Nanometer Thin Film Deposited on Organic Templates by a Layer-by-Layer Self-Assembly Method". Advanced Materials Research 391-392 (diciembre de 2011): 432–36. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.391-392.432.
Texto completoRosaiah, P. y O. M. Hussain. "Microstructural and Electrochemical Properties of rf-Sputtered LiFeO2 Thin Films". Journal of Nanoscience 2014 (13 de marzo de 2014): 1–6. http://dx.doi.org/10.1155/2014/173845.
Texto completoHellgren, Niklas, Nian Lin, Esteban Broitman, Virginie Serin, Stefano E. Grillo, Ray Twesten, Ivan Petrov, Christian Colliex, Lars Hultman y Jan-Eric Sundgren. "Thermal stability of carbon nitride thin films". Journal of Materials Research 16, n.º 11 (noviembre de 2001): 3188–201. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.2001.0440.
Texto completoLai, Lu-Lu y Jin-Ming Wu. "A facile solution approach to W,N co-doped TiO2 nanobelt thin films with high photocatalytic activity". Journal of Materials Chemistry A 3, n.º 31 (2015): 15863–68. http://dx.doi.org/10.1039/c5ta03918e.
Texto completoHeita Shafudah, Natangue, Hiroki Nagai, Yutaka Suwazono, Ryuhei Ozawa, Yukihiro Kudoh, Taiju Takahashi, Takeyoshi Onuma y Mitsunobu Sato. "Hydrophilic Titania Thin Films from a Molecular Precursor Film Formed via Electrospray Deposition on a Quartz Glass Substrate Precoated with Carbon Nanotubes". Coatings 10, n.º 11 (29 de octubre de 2020): 1050. http://dx.doi.org/10.3390/coatings10111050.
Texto completoRamana, K. Venkata, M. Chandra Shekar y V. Madhusudhana Reddy. "Characterization of Blended Polymer Electrolyte Thin Films Based on PVDF + PEG Doped with Nano SiO2". Oriental Journal Of Chemistry 38, n.º 4 (31 de agosto de 2022): 924–28. http://dx.doi.org/10.13005/ojc/380412.
Texto completoMiceli, P. F., H. Zabel, J. A. Dura y C. P. Flynn. "Anomalous lattice expansion of metal-hydrogen thin films". Journal of Materials Research 6, n.º 5 (mayo de 1991): 964–68. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1991.0964.
Texto completoAzmi, Fahmida, Brahim Ahammou, Paramita Bhattacharyya y Peter Mascher. "Optical and Mechanical Properties of Europium-Doped Silicon Oxynitride Thin Films". ECS Meeting Abstracts MA2022-01, n.º 20 (7 de julio de 2022): 1093. http://dx.doi.org/10.1149/ma2022-01201093mtgabs.
Texto completoSarbu, Alexandru, Laure Biniek, Jean-Michel Guenet, Philippe J. Mésini y Martin Brinkmann. "Reversible J- to H-aggregate transformation in thin films of a perylenebisimide organogelator". Journal of Materials Chemistry C 3, n.º 6 (2015): 1235–42. http://dx.doi.org/10.1039/c4tc02444c.
Texto completoYamauchi, H., R. J. White, M. Ayukawa, T. C. Murray y J. W. Robinson. "The structure of thin films sputter deposited from a Ba2 Si2TiO8 ceramic target". Journal of Materials Research 3, n.º 1 (febrero de 1988): 105–11. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1988.0105.
Texto completoLiu, Dage, Hongxi Zhang, Zhong Wang y Liancheng Zhao. "Preparation and Characterization of Pb(Zr0.52Ti0.48)O3 Powders and Thin Films by a Sol-gel Route". Journal of Materials Research 15, n.º 6 (junio de 2000): 1336–41. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.2000.0194.
Texto completoZhou, Weikun, Wenqiao Han, Yihao Yang, Liang Shu, Qinggui Luo, Yanjiang Ji, Cai Jin et al. "Synthesis of freestanding perovskite oxide thin films by using brownmillerite SrCoO2.5 as a sacrificial layer". Applied Physics Letters 122, n.º 6 (6 de febrero de 2023): 062901. http://dx.doi.org/10.1063/5.0131056.
Texto completoFoschini, Cesar, Bruno Hangai, Paulo Ortega, Elson Longo, Mário Cilense y Alexandre Simões. "Evidence of ferroelectric behaviour in CaCu3Ti4O12 thin films deposited by RF-sputtering". Processing and Application of Ceramics 13, n.º 3 (2019): 219–28. http://dx.doi.org/10.2298/pac1903219f.
Texto completoMohammed Al-Ansari, Ramiz A. "The effect of annealing temperatures on the optical parameters of NiO0.99Cu0.01 thin films". Iraqi Journal of Physics (IJP) 14, n.º 29 (3 de febrero de 2019): 73–81. http://dx.doi.org/10.30723/ijp.v14i29.223.
Texto completoLemonds, A. M., K. Kershen, J. Bennett, K. Pfeifer, Y.-M. Sun, J. M. White y J. G. Ekerdt. "Adhesion of Cu and low-k Dielectric Thin Films with Tungsten Carbide". Journal of Materials Research 17, n.º 6 (junio de 2002): 1320–28. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.2002.0197.
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