Log in

Relevant bibliographies by topics / Фоторезист

Academic literature on the topic 'Фоторезист'

Author: Grafiati

Published: 30 May 2022

Last updated: 31 May 2022

Create a spot-on reference in APA, MLA, Chicago, Harvard, and other styles

Select a source type:

Contents

Journal articles
Dissertations / Theses

Consult the lists of relevant articles, books, theses, conference reports, and other scholarly sources on the topic 'Фоторезист.'

Next to every source in the list of references, there is an 'Add to bibliography' button. Press on it, and we will generate automatically the bibliographic reference to the chosen work in the citation style you need: APA, MLA, Harvard, Chicago, Vancouver, etc.

You can also download the full text of the academic publication as pdf and read online its abstract whenever available in the metadata.

Journal articles on the topic "Фоторезист"

1

Суханов, Д. А. "ЧЕРНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ - НОВЫЕ ВОЗМОЖНОСТИ ДЛЯ ПРОЦЕССА ФОТОЛИТОГРАФИИ НА ПРОИЗВОДСТВЕ УСТРОЙСТВ ФОТОНИКИ И МЭМС." NANOINDUSTRY Russia 13, no. 4s (September 11, 2020): 236–43. http://dx.doi.org/10.22184/1993-8578.2020.13.4s.236.243.

Full text

Abstract:

Проведен анализ тенденций мирового рынка по применению устройств фотоники и МЭМС, их развития и технологий, которые смогут оптимизировать литографические процессы при производстве этих устройств. Проведен анализ методов обработки фоторезиста, а также технологий экспонирования.

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

2

Суханов, Д. А. "ЧЕРНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ - НОВЫЕ ВОЗМОЖНОСТИ ДЛЯ ПРОЦЕССА ФОТОЛИТОГРАФИИ НА ПРОИЗВОДСТВЕ УСТРОЙСТВ ФОТОНИКИ И МЭМС." Nanoindustry Russia 13, no. 5s (December 28, 2020): 246–49. http://dx.doi.org/10.22184/1993-8578.2020.13.5s.246.249.

Full text

Abstract:

Проведен анализ тенденций мирового рынка по применению устройств фотоники и МЭМС, их развития и технологий, которые смогут оптимизировать литографические процессы при производстве этих устройств. Проведен анализ методов обработки фоторезиста, а также технологий экспонирования.

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

3

Лебедева, Н. М., Т. П. Самсонова, Н. Д. Ильинская, С. И. Трошков, and П. А. Иванов. "Формирование SiC-мезаструктур с пологими боковыми стенками cухим селективным травлением через маску из фоторезиста." Журнал технической физики 90, no. 6 (2020): 997. http://dx.doi.org/10.21883/jtf.2020.06.49289.12-20.

Full text

Abstract:

Продемонстрировано формирование SiC-мезаструктур с пологими боковыми стенками с помощью селективного реактивно-ионного травления (Reactive Ion Etching, RIE) карбида кремния через маску из фоторезиста (наклонные стенки сформированы при одновременном травлении SiC и резистивной маски, край которой имеет форму острого клина). Простая геометрическая модель травления предсказывает, что результирующий угол наклона стенки мезаструктуры должен задаваться двумя параметрами --- исходным углом резистивного клина и селективностью травления SiC по отношению к фоторезисту (отношением скоростей травления SiC и фоторезиста). Для экспериментов использовались полированные пластины 4H-SiC с ориентацией (0001). На Si-стороне пластин фотолитографическими методами были нанесены площадки из фоторезиста с краевым углом 22o. Затем проводилось травление мезаструктур в трифториде азота в установке с индуктивно-связанной плазмой. Были подобраны параметры RIE-процесса, обеспечивающие травление SiC и фоторезиста со скоростями 55 и 160 nm/min соответственно (селективность травления 1:3). Сформированные травлением SiC-мезаструктуры имеют высоту 3.2 μm и пологие боковые стенки с углом наклона около 8o. Данная технология может использоваться при изготовлении высоковольтных SiC-приборов с прямой фаской. Ключевые слова: карбид кремния, мезаструктура, наклонные стенки, фотолитография, реактивно-ионное травление.

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

4

Тихонова, Е. Д. "МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРОФИЛЯ ФОТОРЕЗИСТА В ПРОЦЕССЕ САМОСОВМЕЩЕННОГО ДВОЙНОГО ПАТТЕРНИРОВАНИЯ С УЧЕТОМ КОРРЕКЦИИ ПРОБЛЕМЫ ГОРЯЧИХ ТОЧЕК." Nanoindustry Russia 14, no. 7s (October 3, 2021): 786–87. http://dx.doi.org/10.22184/1993-8578.2021.14.7s.786.787.

Full text

Abstract:

Данное исследование посвящено проблеме неравномерности профиля фоторезиста на этапе травления в процессе самосовмещенного двойного паттернирования. Было проведено моделирование профиля фоторезиста и предложена методика, помогающая отыскать слабые места процесса и улучшить ширину линий итоговых элементов.

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

5

Кузнецова, Н. А., Н. В. Малимоненко, М. А. Билданов, Д. А. Варламов, and Б. Г. Грибов. "ВЛИЯНИЕ КАТАЛИЗАТОРА ТЕРМООТВЕРЖДЕНИЯ В АНТИОТРАЖАЮЩЕМ ПОКРЫТИИ НА ПРОФИЛЬ ЭЛЕМЕНТОВ ФОТОРЕЗИСТА, "Электронная техника. Серия 3. Микроэлектроника"." Электронная техника. Серия 3. Микроэлектроника, no. 4 (2021): 69–71. http://dx.doi.org/10.7868/s2410993221040096.

Full text

Abstract:

Исследовано влияние концентрации в антиотражающем покрытии кислотного (п-толуолсульфокислота) и нейтрального (триэтиламмониевая соль додецилбензолсульфокислоты) катализаторов сшивки полимерного связующего на профиль элементов фоторезиста.

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

6

Кузнецова, Н. А., В. И. Беклемышев, and Б. Г. Грибов. "ВЛИЯНИЕ ФОТОГЕНЕРАТОРА КИСЛОТЫ В АНТИОТРАЖАЮЩЕМ ПОКРЫТИИ НА ПРОФИЛЬ ЭЛЕМЕНТОВ, ФОРМИРУЕМЫХ В ФОТОРЕЗИСТЕ, "Электронная техника. Серия 3. Микроэлектроника"." Электронная техника. Серия 3. Микроэлектроника, no. 4 (2020): 35–37. http://dx.doi.org/10.7868/s2410993220040053.

Full text

Abstract:

Экспериментально показано, что введение фотогенератора кислоты в композицию антиотражающего покрытия позволяет улучшить профиль полученных на нем элементов фоторезиста, а именно – формировать элементы без уширения у основания (footing).

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

7

Бринкевич, Д. И., С. Д. Бринкевич, Н. В. Вабищевич, В. Б. Оджаев, and В. С. Просолович. "Ионная имплантация позитивных фоторезистов." Микроэлектроника 43, no. 3 (2014): 193–99. http://dx.doi.org/10.7868/s0544126914010037.

Full text

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

8

Бринкевич, Д. И., С. Д. Бринкевич, М. Г. Лукашевич, В. С. Просолович, В. Б. Оджаев, and Ю. Н. Янковский. "Модификация поверхности позитивного фоторезиста при ионной имплантации." Микроэлектроника 44, no. 6 (2015): 448–52. http://dx.doi.org/10.7868/s0544126915060022.

Full text

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

9

Олешкевич, А. Н., Н. М. Лапчук, В. Б. Оджаев, И. А. Карпович, В. С. Просолович, Д. И. Бринкевич, and С. Д. Бринкевич. "Электронная проводимость в имплантированном ионами Р + позитивном фоторезисте." Микроэлектроника 49, no. 1 (2020): 58–65. http://dx.doi.org/10.31857/s0544126919060073.

Full text

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

10

Скиданов, Р. В., О. Ю. Моисеев, and С. В. Ганчевская. "Формирование микротурбин методом прямой лазерной записи по фоторезисту." Журнал технической физики 88, no. 6 (2018): 888. http://dx.doi.org/10.21883/jtf.2018.06.46021.1795.

Full text

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

More sources

Dissertations / Theses on the topic "Фоторезист"

1

Письменецький, В. О., О. С. Профатіло, and О. Райков. "Оптимізація режимів нанесення фоторезисту." Thesis, ХНУРЕ, 2018. http://openarchive.nure.ua/handle/document/7115.

Full text

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

2

Жуковець, Анатолій Петрович, Анатолий Петрович Жуковец, Anatolii Petrovych Zhukovets, and С. А. Караван. "Сухі плівкові фоторезисти для формування рисунка друкованої плати." Thesis, Вид-во СумДУ, 2011. http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/20204.

Full text

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

3

Жуковець, Анатолій Петрович, Анатолий Петрович Жуковец, Anatolii Petrovych Zhukovets, and В. А. Герценок. "Властивості фоторезистів для друкованих плат." Thesis, Видавництво СумДУ, 2011. http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/22101.

Full text

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

4

Щеглов, Сергій Вікторович, Сергей Викторович Щеглов, Serhii Viktorovych Shchehlov, and М. Кучков. "Фотореле со звуковой сигнализацией." Thesis, Издательство СумГУ, 2011. http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/13799.

Full text

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

5

Петричко, В. В. "Розробка та дослідження апаратно-програмного засобу визначення освітлення приміщення в розумному домі." Thesis, Київський національний університет технологій та дизайну, 2018. https://er.knutd.edu.ua/handle/123456789/11442.

Full text

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

6

Лаврик, А. В. "Автоматизована система керування вирощуванням кімнатних рослин." Master's thesis, Сумський державний університет, 2020. https://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/81448.

Full text

Abstract:

Пояснювальна записка має наступну структуру: 79 сторінок тексту, 30 рисунків, 12 таблиць і сім розділів тексту. Графічна частина складається з алгоритму роботи та структурної, функціональної і принципової схем. Перший розділ присвячений огляду існуючих пристроїв по заданому напрямку проектування та постановці завдання до проектування. В другому розділі проведено експериментальне дослідження, щодо вибору модулів освітлення та бажаного алгоритму їх роботи. Третій розділ присвячений створенню структурної схеми пристрою та алгоритму роботи за яким вона працює. Четвертий та п'ятий розділи містять інформацію про розробку схеми підключення самого мікроконтролера та додаткових датчиків. Вони містять інформацію про розробку функціональної та принципової схем. Також виконаний підбір елементної бази. Шостий розділ містить пояснення до розробки керуючого програмного забезпечення. Сьомий розділ присвячений техніко-економічним розрахункам розробленої системи. В ній можна побачити детальні затрати на виготовлення, зберігання та реалізацію розроблених виробів. Визначено рекомендовану ціну для системи. Приведено 14 літературних джерел.

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

7

Rodzin, Maksym, Максим Олегович Родзін, Yaroslav Kharchenko, and Ярослав Геннадійович Харченко. "Efficient solar panel based on Arduino microcontroller." Thesis, National Aviation University, 2021. https://er.nau.edu.ua/handle/NAU/50480.

Full text

Abstract:

1. Vashchyshak I.R., Tsykh V.S.Improving the energy efficiency of a solar powerplant:Oilandgasenergy2020.№1(33). URL: https://nge.nung.edu.ua/index.php/nge/article/download/514/503/1810 2. Polyak A.R., Reshetilo O.M. Software-hardware complex of solar panel angle control/LutskNationalTechnicalUniversity.URL:http://av.lntu.edu.ua/attachments/article/317/1_Poliak.pdf
Тhe work is devoted to ecology as an urgent problem for mankind nowadays. It depicts the effectiveness factor of the panels should be installed on special support that allows the elements to rotate after the sun.
Робота присвячена екології як актуальній проблемі людства в наш час. Визначено коефіцієнт ефективності панелей, які слід встановлювати на спеціальній опорі, що дозволяє елементам обертатися після сонячних променів.

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

We offer discounts on all premium plans for authors whose works are included in thematic literature selections. Contact us to get a unique promo code!