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Academic literature on the topic 'Résonance cyclotronique électronique (ECR)'

Author: Grafiati
Published: 22 June 2023

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Journal articles on the topic "Résonance cyclotronique électronique (ECR)"

1

Gaudin, C., C. Rouillé, K. Serebrennikov, et al. "Source compacte de rayons X basée sur la résonance cyclotronique électronique." Le Journal de Physique IV 09, PR5 (1999): Pr5–43—Pr5–44. http://dx.doi.org/10.1051/jp4:1999515.

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Dissertations / Theses on the topic "Résonance cyclotronique électronique (ECR)"

1

Majeri, Nassim. "Production de rayons X par plasma ECR." Thesis, Orléans, 2009. http://www.theses.fr/2009ORLE2077/document.

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Abstract:
Durant cette thèse nous avons caractérisé et amélioré une nouvelle source de rayons X avec unplasma ECR (résonance cyclotronique électronique) permettant de générer des électronsénergétiques de 10 à 120 keV, qui vont ensuite produire le rayonnement X par freinage(bremsstrahlung). Les améliorations de l’installation ont permis d’obtenir une source stable, pouvantfonctionner une journée entière de travail (huit heures) sans arrêt. Dans la première partie de l’étudeexpérimentale on a étudié et déterminé les paramètres optimaux de la source : la pression, lapuissance micro-onde et la configuration
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2

Perret, Cécile. "Caractérisation de la population électronique dans un plasma de source d'ions à résonance cyclotronique électronique." Université Joseph Fourier (Grenoble), 1998. http://www.theses.fr/1998GRE10123.

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Abstract:
Cette these presente deux approches de caracterisation de la population electronique d'un plasma de source d'ions a resonance cyclotronique electronique. Des mesures effectuees sur une source dediee a l'etude du plasma ont permis de determiner la densite electronique, le potentiel plasma et le contenu energetique. L'ensemble de ces mesures a montre que la population electronique n'est pas une maxwellienne. Les collisions ne sont pas suffisantes pour thermaliser les electrons chauffes par l'onde h. F. . Il apparait donc une queue d'electrons tres energetiques dans la fonction de distribution el
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3

Adrouche, Nacer. "Diagnostic du plasma de la source d'ions ECR SIMPA par spectroscopie X : collisions d'ions néon hydrogenoïdes avec des agrégats d'argon." Paris 6, 2006. https://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00105774.

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Abstract:
La première partie est consacrée à la caractérisation de la source d’ions ECR SIMPA. En analysant les spectres Bremsstrahlung du plasma, nous avons déterminé la température et la densité électronique et la densité ionique. Nous avons également enregistré des spectres haute résolution des plasmas d’argon et de krypton pour déterminer la densité ionique des états de charges. La seconde partie est consacrée à la collision des ions de Ne9+ avec des agrégats d’argon. Nous avons effectué une application théorique pour une collision d’un ion Ne9+ avec un agrégat d’argon, pour connaître les niveaux én
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4

Slim, Aref. "Procédé de dépôt et transition vers un plasma poudreux en plasma microonde multipolaire excité à la résonance cyclotronique électronique répartie de méthane." Toulouse 3, 2011. http://thesesups.ups-tlse.fr/1338/.

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Abstract:
Ces travaux concernent le dépôt assisté par plasma de couches minces homogènes de carbone amorphe hydrogéné (a-C:H) et de couches minces hétérogènes composées de nanoparticules formées dans le volume du plasma encapsulées dans une matrice de a-C:H en plasma microonde multipolaire excité à la resonance cyclotronique électronique répartie. Le but de cette thèse est de comprendre l'influence de différents paramètres du procédé, tels que la température du substrat, la puissance microonde et le temps de résidence du gaz, sur les processus d'interaction plasma-surfaces et la transition vers le plasm
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5

Aleiferis, Spyridon. "Étude expérimentale de la production d’ions négatifs H- par des plasmas à la résonance cyclotron électronique." Thesis, Université Grenoble Alpes (ComUE), 2016. http://www.theses.fr/2016GREAI032/document.

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Abstract:
Cette thèse porte sur l'étude expérimentale de la production d’ions négatifs (H-) par des sources multi-dipolaires microondes (2.45 GHz) fonctionnant à la Résonance Cyclotron des Electrons (RCE). Les sources H- sont nécessaires aux accélérateurs de haute énergie et surtout pour les systèmes d’injection de neutres à haute énergie pour le chauffage des plasmas de fusion. Pour cette étude, deux sources (Prometheus I et ROSAE III) ont été conçues, fabriquées et étudiées. Ces deux sources sont munies de réseaux 2D des sources multi-dipolaires. Il est prouvé que la formation des ions négatifs dans c
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6

Leduc, Alexandre. "Etude par la simulation et l'expérimentation de la production d'ions métalliques Calcium à l'aide d'une source d'ions du type Résonance Cyclotronique Electronique." Thesis, Normandie, 2019. http://www.theses.fr/2019NORMC239.

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Abstract:
Dans le cadre du projet SPIRAL2, la source d'ions à la résonance cyclotronique électronique (RCE) PHOENIX V3 (amélioration par rapport à la précédente version PHOENIX V2) a été développée afin d'augmenter la production d'ions avec un A/Q=3. La source vise principalement la production d'ions métalliques. Pour cela, des atomes métalliques sont sublimés dans un four avant d'être injectés dans la source d'ions. Lors de la production de tels faisceaux d'ions, la grande majorité des atomes se fixe au niveau de la paroi de la chambre à plasma et y reste. Ces pertes mènent à une faible efficacité glob
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7

Ahammou, Brahim. "Control of the mechanical and optical properties of SiNx-based films for optical and strain engineering applications." Electronic Thesis or Diss., Université de Rennes (2023-....), 2023. https://ged.univ-rennes1.fr/nuxeo/site/esupversions/1e39bf0e-e06f-4457-a06f-b08b11c3bef6.

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Abstract:
Les couches minces à base de nitrure de silicium (SiNx) ont été reconnus comme des diélectriques essentiels dans l'industrie microélectronique et optoélectronique en raison de leurs propriétés intéressantes. Dans cette thèse, nous décrivons comment contrôler l'indice optique et les propriétés mécaniques des couches de SiNx et d'oxynitrure de silicium (SiOyNx) en ajustant les paramètres du processus de dépôt. Nous utilisons deux types de réacteurs de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma : un réacteur standard à couplage capacitif avec excitation radiofréquence et un réacteur à réso
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8

GAUDIN, CHRISTELLE. "Emission de rayons x dans un plasma ecr (electron cyclotron resonance) en vue d'applications medicales." Toulouse 3, 1999. http://www.theses.fr/1999TOU30089.

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Abstract:
Nous avons developpe et etudie une nouvelle source de rayons x (dans la gamme 10-100 kev) en utilisant un plasma a la resonance cyclotronique des electrons. Le dispositif experimental a ete concu et ameliore afin d'obtenir une source a la fois compacte, stable et plus intense. Pour etudier le transfert d'energie de l'onde incidente aux electrons, nous avons d'abord calcule numeriquement la trajectoire des particules dans un champ magnetique homogene et obtenu la dependance de l'energie maximale de l'electron en fonction du champ electrique de l'onde. De plus, nous avons considere un processus
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9

Marie-Jeanne, Mélanie. "Investigation des performances d'un élévateur de l'état de charge par ECR à ISOLDE : une étude du scénario 1+ n+ pour les installations ISOL de la prochaine génération." Phd thesis, Grenoble 1, 2009. http://www.theses.fr/2009GRE10026.

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Abstract:
Le travail que je décris ici fut effectué à ISOLDE, au CERN. Il vise à établir un rapport objectif des performances actuelles des sources d'ions à Résonance Electronique Cyclotronique (ECR) utilisées en tant qu'élévateurs d'état de charge, à la fois avec des faisceaux d'ions stables et radioactifs. Au préalable, j'ai entrepris quelques développements techniques pour améliorer le dispositif et conduire les tests dans des conditions optimales. Ce rapport détaille la majeure partie de ces développements qui concerne la pureté du faisceau. Puis, j'ai achevé le programme de mesure des efficacités d
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10

Khallaayoune, Jamal. "Dépot d'oxyde de silicium aplanissant par plasma multipolaire micro-onde à résonance cyclotronique électronique répartie." Université Joseph Fourier (Grenoble ; 1971-2015), 1992. http://www.theses.fr/1992GRE10153.

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Abstract:
Dans cette etude, nous avons utilise un plasma multipolaire microonde pour deposer l'oxyde de silicium a partir du melange sih#4/o#2 a basse temperature (< 400c) ; le plasma est genere par resonance cyclotronique electronique repartie (rcer) a basse pression (< 10 mtorr). Nous avons etudie l'influence des parametres du procede, tels que les debits des gaz, la puissance microonde, l'energie des ions, la temperature,. . . , sur les proprietes physico-chimiques et electriques de ces oxydes. Il a ete ainsi possible de determiner les conditions d'obtention de couches presentant des caracteristiques
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Books on the topic "Résonance cyclotronique électronique (ECR)"

1

Electron cyclotron resonance ion sources and ECR plasmas. Institute of Physics Pub., 1996.

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2

Geller, R. Electron Cyclotron Resonance Ion Sources and ECR Plasmas. CRC Press LLC, 2018.

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