Academic literature on the topic 'Delta doping'

Create a spot-on reference in APA, MLA, Chicago, Harvard, and other styles

Select a source type:

Consult the lists of relevant articles, books, theses, conference reports, and other scholarly sources on the topic 'Delta doping.'

Next to every source in the list of references, there is an 'Add to bibliography' button. Press on it, and we will generate automatically the bibliographic reference to the chosen work in the citation style you need: APA, MLA, Harvard, Chicago, Vancouver, etc.

You can also download the full text of the academic publication as pdf and read online its abstract whenever available in the metadata.

Journal articles on the topic "Delta doping"

1

Gossmann, H. J., and E. F. Schubert. "Delta doping in silicon." Critical Reviews in Solid State and Materials Sciences 18, no. 1 (January 1993): 1–67. http://dx.doi.org/10.1080/10408439308243415.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
2

Kulbachinskii, V. A., V. G. Kytin, R. A. Lunin, A. V. Golikov, V. G. Mokerov, A. S. Bugaev, A. P. Senichkin, R. T. F. van Schaijk, A. de Visser, and P. M. Koenraad. "Sn delta-doping in GaAs." Semiconductor Science and Technology 14, no. 12 (November 8, 1999): 1034–41. http://dx.doi.org/10.1088/0268-1242/14/12/304.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
3

Bénière, François, René Chaplain, Marcel Gauneau, Viswanatha Reddy, and André Régrény. "Delta-doping in diffusion studies." Journal de Physique III 3, no. 12 (December 1993): 2165–71. http://dx.doi.org/10.1051/jp3:1993259.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
4

Zeindl, H. P., E. Hammerl, W. Kiunke, and I. Eisele. "Delta doping superlattices in silicon." Journal of Electronic Materials 19, no. 10 (October 1990): 1119–22. http://dx.doi.org/10.1007/bf02651991.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
5

Kim, Jong-Hee, Gye Mo Yang, Sung Chul Choi, Ji Youn Choi, Hyun Kyung Cho, Kee Young Lim, and Hyung Jae Lee. "Si Delta Doped GaN Grown by Low-Pressure Metalorganic Chemical Vapor Deposition." MRS Internet Journal of Nitride Semiconductor Research 4, S1 (1999): 305–9. http://dx.doi.org/10.1557/s1092578300002635.

Full text
Abstract:
Si delta-doping in the GaN layer has been successfully demonstrated by low-pressure metalorganic chemical vapor deposition at a growth temperature of 1040 . Si delta-doping concentration increases and then decreases with an increase in delta-doping time. This indicates that delta-doping concentration is limited by the desorption process owing to much higher thermal decomposition efficiency of silane at high growth temperatures of GaN. In addition, it was observed that the use of a post-purge step in the ammonia ambient reduces Si delta-doping concentration. From capacitance-voltage measurement, a sharp carrier concentration profile with a full-width at half maximum of 4.1 nm has been achieved with a high peak concentration of 9.8 1018 cm−3.
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
6

Schubert, E. F., and R. F. Kopf. "Delta-Doping in III-V Semiconductors." Materials Science Forum 65-66 (January 1991): 53–66. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.65-66.53.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
7

Eisele, I. "Delta-type doping profiles in silicon." Applied Surface Science 36, no. 1-4 (January 1989): 39–51. http://dx.doi.org/10.1016/0169-4332(89)90897-0.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
8

Zagwijn, P. M., Y. N. Erokhin, W. F. J. Slijkerman, J. F. van der Veen, G. F. A. van de Walle, D. J. Gravesteijn, and A. A. van Gorkum. "Ga delta‐doping layers in silicon." Applied Physics Letters 59, no. 12 (September 16, 1991): 1461–63. http://dx.doi.org/10.1063/1.105288.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
9

Zervos, Matthew. "Delta(δ)-doping of semiconductor nanowires." physica status solidi (RRL) - Rapid Research Letters 7, no. 9 (July 1, 2013): 651–54. http://dx.doi.org/10.1002/pssr.201307219.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
10

Butler, James E., Anatoly Vikharev, Alexei Gorbachev, Mikhail Lobaev, Anatoly Muchnikov, Dmitry Radischev, Vladimir Isaev, et al. "Nanometric diamond delta doping with boron." physica status solidi (RRL) - Rapid Research Letters 11, no. 1 (December 7, 2016): 1600329. http://dx.doi.org/10.1002/pssr.201600329.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

Dissertations / Theses on the topic "Delta doping"

1

Dewdney, Andrew James. "The optical properties of delta doping GaAs based superlattices and heterostructures." Thesis, Imperial College London, 1996. http://ethos.bl.uk/OrderDetails.do?uin=uk.bl.ethos.244658.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
2

Sipahi, Guilherme Matos. "Teoria do Confinamento de Buracos em Heteroestruturas Semicondutoras do Tipo Delta-doping." Universidade de São Paulo, 1997. http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/43/43133/tde-31082012-132038/.

Full text
Abstract:
Poços e super-redes delta-doping tipo são sistemas semicondutores de interesse considerável tanto para a pesquisa básica como para aplicações em dispositivos. Neste trabalho desenvolvemos um novo método para o cálculo de potenciais e estruturas de bandas deste tipo de sistemas. O método baseia-se na expansão em ondas planas da equação da massa efetiva multibandas, usa matrizes de energia cinética de qualquer tamanho e leva em conta o potencial de troca e correlação de uma maneira mais rigorosa do que em trabalhos anteriores. São calculados perfis de potencial e estrutura de minibandas e subbandas bem como a posição do nível de Fermi de uma série de poços isolados e super-redes delta-doping tipo p. São estudadas também as diferenças entre super-redes delta-doping tipo p e tipo n. A partir deste método foi desenvolvido ainda um procedimento de cálculo de espectros de fotoluminescência dos poços estudados. Este procedimento baseia-se nas forças de oscilador das transições entre os buracos confinados no interior do poço e os elétrons livres da banda de condução. Ele é utilizado para calcular funções envelope, integrais de superposição e espectros de transições diretas e indiretas. Por fim, comparamos espectros calculados teoricamente com resultados experimentais extraídos da literatura.
p-type ro-doping quantum wells and superlattices are semiconductor systems of considerable interest for basic research and device applications. In this work, a method for calculating potentials and band structures of such systems is developed. The method relies on a plane wave expansion of the multiband effective mass equation, uses kinetic energy matrices of any size, and takes exchange correlation into account in a more rigorous way than this was done before. The method is used to calculate potential profiles, subband and miniband structures as well as Fermi level positions for a series of p-type delta-doping quantum wells and superlattices. The differences between n- and p-type delta-doping structures are studied. In addition to this we developed a procedure within this method to ca1culate photoluminescence (PL) spectra of the wells studied. It depends on the oscillator strength between the holes inside the wells and the free electrons on the conduction band. We use this procedure to calculate envelope functions, overlap integrals and direct and indirect transitions spectra. Finally, we compare our theoretical calculations of PL spectra with experimental results extracted from the literature.
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
3

Lima, Washington Luiz Carvalho. "Estrutura eletrônica em sistemas com dopagem tipo Delta." Universidade de São Paulo, 1992. http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/54/54131/tde-14012009-110206/.

Full text
Abstract:
Neste trabalho estudamos as propriedades eletrônicas de um sistema com dopagem planar ou delta. Resolvemos as equações de Schrodinger e Poisson autoconsistentemente na aproximação de Hatree para diferentes situações de interesse com ou sem campos magnéticos ou elétricos externos. O método empregado para resolvermos a equação de Schrodinger e baseado na técnica do split operator. Obtemos o potencial efetivo, os níveis de energia e a densidade eletrônica em função da temperatura, densidade e largura de difusão dos doadores. Para um campo magnético uniforme aplicado perpendicularmente ao plano de doadores mostramos que não ocorre nenhuma alteração na estrutura das sub-bandas eletrônicas no intervalo entre 0 e 20T. Para um campo magnético uniforme aplicado paralelamente ao plano de doadores os níveis eletrônicos são deslocados para energias mais elevadas provocando uma diminuição na população dos níveis mais excitados e um aumento significativo na massa efetiva do elétron. Para sistemas na presença de um campo elétrico externo calculamos a energia das sub-bandas eletrônicas, a ocupação, a polarização e a capacitância em função da voltagem externa, da densidade e da posição das impurezas doadoras. Nossos resultados para capacitância estão qualitativamente em acordo com recentes resultados experimentais.
In this work we have studied the electronic proprieties of a system with planar doping or δ-doping. We have solved the Schrodinger and Poisson equations self-consistently in the Hatree approximation for several conditions with or without external magnetic or electric fields. In order to solve Schrodinger equation we have employed the split operator technique. The effective potential, the energy levels and the electronic density was calculated as a function of temperature, donor density and donor diffusion width. With external magnetic field applied perpendicular to the donors plane it is shown that the sub-bands energies are not altered for fields in the range of 0 to 20T. With magnetic fields applied parallel to the donors plane we have observed that the energy levels are shifted to higher energies and a depopulation of the excited levels occur, also an enhancement of the electron effective mass is found. With an electric field applied to the system we have calculated the sub-bands energy levels, the electron concentration, the polarization, and the capacitance as a function of the gate voltage, donor density and the position of the donor plane. Our results for the capacitance agree qualitatively quite well with recent experimental data.
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
4

Boyce, Brent R. "Carrier doping studies of pure and Ni substituted YBa?Cu?O?-[delta] thin films /." The Ohio State University, 2000. http://rave.ohiolink.edu/etdc/view?acc_num=osu1488195154357746.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
5

Higgins, Joshua Scott. "Disorder and doping in the oxygenated electron-doped superconductor Pr₂₋[x]Ce[x]CuO₄±[4-delta]." College Park, Md. : University of Maryland, 2006. http://hdl.handle.net/1903/4064.

Full text
Abstract:
Thesis (Ph. D.) -- University of Maryland, College Park, 2006
Thesis research directed by: Physics. Title from t.p. of PDF. Includes bibliographical references. Published by UMI Dissertation Services, Ann Arbor, Mich. Also available in paper.
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
6

Wilson, Stephen Peter. "One-dimensional modelling of pseudomorphic semiconductor heterostructures with applications to capacitance-voltage profililng and #delta#-doping." Thesis, University of York, 1991. http://ethos.bl.uk/OrderDetails.do?uin=uk.bl.ethos.306565.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
7

Herval, Leonilson Kiyoshi Sato de. "Propriedades magneto-óticas e de magneto-transporte de um diodo de tunelamento ressonante contendo Si δ - doping no poço quântico." Universidade Federal de São Carlos, 2011. https://repositorio.ufscar.br/handle/ufscar/5031.

Full text
Abstract:
Made available in DSpace on 2016-06-02T20:16:47Z (GMT). No. of bitstreams: 1 3794.pdf: 17721129 bytes, checksum: b6546a47de96bdc71ee912de0e338148 (MD5) Previous issue date: 2011-03-11
Universidade Federal de Sao Carlos
In this work, we have studied the transport and optical properties of GaAs = AlGaAs resonant tunneling diodes with Si delta-doping at the center of the quantum well. We have studied magneto-transport and polarized resolved photoluminescence from GaAs quantum well and contact layers as a function of applied voltage and magnetic _eld parallel to the tunnel current. Three resonant peaks are observed in the current-voltage characteristics curve and are associated to the resonant tunneling through the bound state of a shallow donor impurity in the quantum well (donor-assisted resonant tunneling), the electron resonant tunneling through the _rst con_ned state in the quantum well and the phonon-assisted tunneling. The contact layer and the quantum well emissions were investigated as a function of applied bias at 15 T. The optical emission from GaAs contact layers shows evidence of highly spin polarized two-dimensional electron (2DEG) and hole (2DHG) gases which a_ects the spin polarization of carriers in the QW. The quantum well (QW) photoluminescence presents strong circular polarization with values up to 85% in 15 T at low applied voltages (at the donor assisted resonant tunneling condition) and for low laser intensities. Our results may be interesting for the developing of new voltage-controlled spintronics devices.
Neste trabalho, realizamos um estudo sistemático das propriedade óticas e de transporte de um diodo de tunelamento ressonante GaAs = AlGaAs com delta-doping de Silício no centro do poço quântico. Realizamos medidas das curvas características corrente tensão e da fotoluminescência resolvida em polarização em função da voltagem e do campo magnético aplicado na direção paralela à corrente túnel. Foram observados três picos na curva característica de corrente-tensão, que foram associados ao tunelamento ressonante através de estados ligados de impurezas doadoras no poço quântico (tunelamento ressonante assistido por impurezas doadoras), tunelamento ressonante do elétron através do primeiro estado con_nado no poço quântico e ao tunelamento assistido por emissão de fônons óticos. Observamos sinal de fotoluminescência associado à emissão em diferentes camadas da amostra incluindo o poço quântico de GaAs e as camadas de contato com intensidades sensíveis à voltagem aplicada ao diodo. A emissão das camadas do contato e do poço quântico em função da voltagem foi investigada para diferentes valores de campo magnético. Na ausência de campo magnético, observamos uma emissão dependente da voltagem, que foi associada à recombinação indireta de buracos do gás bidimensional de buracos que se formam próxima à barreira e elétrons livres. Uma nova emissão dependente da voltagem aplicada foi observada na presença de campo magnético e foi associada à recombinação de elétrons do gás bidimensional de elétrons que é formada próxima à barreira emissora com buracos livres. Observamos que tais emissões, associadas aos gases bidimensionais, são altamente polarizadas e podem contribuir de forma signi_cativa para polarização de spin na região do poço quântico. Observamos também um alto grau de polarização de spin do poço quântico com valores de até 85% em 15 T em baixa voltagem (condição em que há o tunelamento ressonante assistido por impurezas doadoras) e em baixa intensidade do laser. Foi realizado também um breve estudo do comportamento das i ii emissões com a variação do campo magnético e da potência de luz aplicada. De forma geral, nossos resultados podem ser interessantes para o desenvolvimento de dispositivos spintrônicos controlados por voltagem
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
8

Chicot, Gauthier. "Effet de champs dans le diamant dopé au bore." Phd thesis, Université de Grenoble, 2013. http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-01062250.

Full text
Abstract:
Alors que la demande en électronique haute puissance et haute fréquence ne fait qu'augmenter, les semi-conducteurs classiques montrent leurs limites. Des approches basées soit sur des nouvelles architectures ou sur des matériaux à large bande interdite devraient permettre de les dépasser. Le diamant, avec ses propriétés exceptionnelles, semble être le semi-conducteur ultime pour répondre à ces attentes. Néanmoins, il souffre aussi de certaines limitations, en particulier d'une forte énergie d'ionisation du dopant de type p (bore) qui se traduit par une faible concentration de porteurs libres à la température ambiante. Des solutions innovantes s'appuyant sur un gaz 2D et /ou l'effet de champ ont été imaginées pour résoudre ce problème. Ce travail est axé sur deux de ces solutions : i) le diamant delta dopé au bore qui consiste en une couche fortement dopée entre deux couches intrinsèques, afin d'obtenir une conduction combinant une grande mobilité avec une grande concentration de porteurs et ii) le transistor à effet de champ métal oxide semiconducteur( MOSFET ), où l'état " on " et l'état " off " du canal sont obtenus grâce au contrôle électrostatique de la courbure de bandes à l' interface de diamant/oxyde. Pour ces deux structures, beaucoup de défis technologiques doivent être surmontés avant de pouvoir fabriquer un transistor. La dépendance en température de la densité surfacique de trous et de la mobilité de plusieurs couche de diamant delta dopées au bore a été étudiée expérimentalement et théoriquement sur une large gamme de température (6 K
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
9

Fiori, Alexandre. "Nouvelles générations de structures en diamant dopé au bore par technique de delta-dopage pour l'électronique de puissance : croissance par CVD et caractérisation." Phd thesis, Université de Grenoble, 2012. http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00967208.

Full text
Abstract:
Dans ce projet de thèse, qui s'appuie sur l'optimisation d'un réacteur de croissance du diamant et la construction d'un prototype, nous avons démontré l'épitaxie par étapes de couches de diamant, orientées (100), lourdement dopées au bore sur des couches de dopage plus faible dans le même processus, sans arrêter le plasma. Plus original, nous avons démontré la situation inverse. Nous présentons aussi des croissances assez lentes pour l'épitaxie de films d'épaisseur nanométriques avec de grands sauts de dopage, appelé delta-dopage. L'accent a été porté sur le gain en raideur des interfaces. Nous démontrons la présence d'interfaces fortement abruptes, issues de gravures in-situ optimisées, par une analyse conjointe en spectrométrie de masse à ionisation secondaire et en microscopie électronique en transmission à balayage en champ sombre annulaire aux grands angles. Des super-réseaux de dopages abrupts montrent des pics satellites de diffraction X typiques de la super-période.
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
10

Cabral, Erika Dias. "Estudos de propriedades elétricas e magnéticas em nanoestruturas de GaMnAs de uso em spintrônica." Universidade do Estado do Rio de Janeiro, 2009. http://www.bdtd.uerj.br/tde_busca/arquivo.php?codArquivo=1462.

Full text
Abstract:
Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior
Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico
Um estudo da interação entre desordem e polarização de spin no GaMnAs ajuda a compreender a natureza dos estados, estendidos ou localizados, bem como as consequências para as transições observadas sobre as propriedades de transporte e às mudanças na ordem magnética de momentos magnéticos localizados em sítios de Mn. Este estudo pressupõe a ocorrência de uma banda impureza com baixas concentrações de Mn, que merge na banda valência no caso de concentrações mais elevadas. A abordagem teórica, baseada em um formalismo de espalhamento múltiplo auto-consistente, através do cálculo da função de Green para buracos determina-se a função densidade espectral no nível de Fermi. A escolha de uma figura de mérito, com base na largura e sobre a posição do máximo da função densidade espectral no espaço recíproco, leva a um diagrama de fase que determina o caráter metálicos ou não metálicos da amostra. Também é possível identificar a mobility edge, e como consequência, a densidade efetiva de portadores livre. Uma amostra é definida pelo par de parâmetros independentes, a concentração de Mn e a densidade buraco. As melhores amostras, aquelas com os maiores valores de mérito, tem uma relação entre a densidade de buracos estendidos e a concentração de Mn aproximadamente de 0.3, muito próximo do raio de 10-25% observada entre as amostras reais produzidos com a mais alta temperatura de transição. Além disso, a relação entre essas concentrações de Mn correspondente as transições metal-não-metal e não-metal-metal que é de aproximadamente 2.4, muito próximo do valor 2.1 da amostras reais. Uma interpretação da ocorrência de ferromagnetismo com alta temperatura de transição em GaMnAs é dada como uma consequência da interação entre o mecanismo de interação assistido por estados localizados e interações indiretas assistida pelo estdos buraco estendidos. Portadores mediando magnetismo em semicondutores mostram diferenças importantes e potencialmente úteis a diferenças de magnetismo em metais tais como o luz- ou voltagem elétrica -controlando ferromagnetismo. Motivado por experiências reportadas em poços quânticos de GaAs com uma dopagem delta de Mn com altas temperaturas Currier (temperatura de transição) mais elevadas do que em bulk de (Ga, Mn)As, nós exploramos teoricamente a viabilidade do campo elétrico controlar ferromagnetismo em poços quânticos. Nós calculamos auto-consistentemente a interação de troca indireta em Mn-Mn íons e aplicamos a simulação Monte Carlo para encontrar transição temperatura Tc. A nossa abordagem permite-nos estudar sistematicamente os efeitos de confinamento quântico e da posição da camada magnética de Mn e Tc, que vai além da aproximação do campo médio. Nós comparamos nossos resultados com os resultados experimentais e sugerimos caminho para o melhor controle do ferromagnetismo.
A study of the interplay between disorder and spin polarization in the diluted magnetic semiconductor GaMnAs helps to understand the character of states, extended or localized. This study assumes the occurrence of an impurity band which merges into the valence band at higher concentrations. The theoretical approach, based on a self-consistent multiple scattering formalism, determines the spectral density function at the Fermi level from the calculation of the hole's Green's functions. A choice of a figure of merit, based on the width and on the position of the maximum of the spectral density function in the reciprocal space, leads to a phase diagram determining the metallic or non-metallic character of the sample. It is also possible to identify mobility edges and, in consequence, the density of effectively free carriers. A model sample is defined by the pair of independent parameters, Mn concentration and hole density. The best samples, those with the highest figures of merit, have a ratio between the extended hole density and the Mn concentration near 0.3, very close to ratio of 10-30% observed among the real samples produced with the highest transition temperatures. Also, the ratio between those Mn concentrations corresponding to the metal-to-non-metal and non-metal-to-metal transitions is approximately 2.4, very close to the value 2.1 inferred from the real samples. An interpretation of the occurrence of high transition temperature ferromagnetism in GaM-nAs is given as a consequence of the interplay between interaction mechanism assisted by localized states and indirect interactions assisted by extended hole states. Carrier mediated magnetism in semiconductors show important and potentially useful differences from magnetism in metals,such as light- or bias-controlled ferromagnetism. Motivated by experiments reporting higher Currier temperatures in GaAs quantum wells with Mn-delta doping than the ones observed in bulk (Ga,Mn)As, we explore theoretically the feasibility of bias-controlled ferromagnetism these systems. We calculate self-consistently indirect Mn-Mn exchange interaction, and apply Monte Carlo approach to find transition temperature Tc. Our approach allows us to systematically study the eects of quantum confinement and the position of Mn layer on magnetic ordering and Tc, beyond mean field approximation. We compare our findings with the experimental results and suggest paths toward improving the control of ferromagnetism.
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

Books on the topic "Delta doping"

1

Bottari, Carlo. La tutela della salute nelle attività motorie e sportive: Doping e problematiche giuridiche. Santarcangelo di Romagna (Rimini): Maggioli, 2004.

Find full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
2

Fred, Schubert E., ed. Delta-doping of semiconductors. Cambridge: Cambridge University Press, 1996.

Find full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
3

Schubert, E. F. Delta-doping of Semiconductors. Cambridge University Press, 2005.

Find full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

Book chapters on the topic "Delta doping"

1

Kang, In Ho, Wook Bahng, Sang Cheol Kim, Sung Jae Joo, and Nam Kyun Kim. "Numerical Investigation of the DC and RF Performances for a 4H-SiC Double Delta-Doped Channel MESFET Having Various Delta-Doping Concentrations." In Materials Science Forum, 823–26. Stafa: Trans Tech Publications Ltd., 2007. http://dx.doi.org/10.4028/0-87849-442-1.823.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
2

Das, Bhaskar, J. Schulze, and Udayan Ganguly. "Effect of Delta-p Doping and i-Region Length Scaling on Ion/Ioff in Si NIPIN Diode for Selector Application." In Springer Proceedings in Physics, 671–74. Cham: Springer International Publishing, 2019. http://dx.doi.org/10.1007/978-3-319-97604-4_103.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
3

"Delta doping." In Doping in III-V Semiconductors, 433–81. Cambridge University Press, 1993. http://dx.doi.org/10.1017/cbo9780511599828.014.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
4

Konagai, Makoto. "Delta doping in a-Si devices." In Current Topics in Amorphous Materials, 357–62. Elsevier, 1993. http://dx.doi.org/10.1016/b978-0-444-81576-7.50056-3.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
5

"Delta Doping of InP and Related Compounds." In InP and Related Compounds, 213–62. CRC Press, 2000. http://dx.doi.org/10.1201/9781482282986-13.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
6

Schubert, E. F. "Chapter 1 Delta-Doping of Semiconductors: Electronic, Optical, and Structural Properties of Materials and Devices." In Semiconductors and Semimetals, 1–151. Elsevier, 1994. http://dx.doi.org/10.1016/s0080-8784(08)62662-9.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
7

"Silicon Carbide Delta-Doped Structures Formed by “Pulse Doping” Technique in the Vertical Hot Wall Type CVD System." In Compound Semiconductors 2001, 691–96. CRC Press, 2002. http://dx.doi.org/10.1201/9781482268980-92.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
8

Nikzad, S., and M. E. Hoenk. "High-performance silicon imagers, back illumination using delta and superlattice doping, and their applications in astrophysics, medicine, and other fields." In High Performance Silicon Imaging, 473–501. Elsevier, 2020. http://dx.doi.org/10.1016/b978-0-08-102434-8.00015-5.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

Conference papers on the topic "Delta doping"

1

Scappucci, Giordano. "Phosphorus delta-doping in germanium." In 2014 7th International Silicon-Germanium Technology and Device Meeting (ISTDM). IEEE, 2014. http://dx.doi.org/10.1109/istdm.2014.6874623.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
2

Hendriks, Peter, E. A. E. Zwaal, Jos E. M. Haverkort, and Joachim H. Wolter. "Modulation doping and delta doping of III-V compound semiconductors." In Physical Concepts of Materials for Novel Optoelectronic Device Applications, edited by Manijeh Razeghi. SPIE, 1991. http://dx.doi.org/10.1117/12.24504.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
3

Kalna, K., and A. Asenov. "Multiple delta doping in aggressively scaled PHEMTs." In 31st European Solid-State Device Research Conference. IEEE, 2001. http://dx.doi.org/10.1109/essderc.2001.195265.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
4

Akazawa, Housei. "Delta-doping of boron by photo-excited CVD." In 2011 11th International Workshop on Junction Technology (IWJT). IEEE, 2011. http://dx.doi.org/10.1109/iwjt.2011.5970010.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
5

Piprek, Joachim, H. Kostial, Peter Krispin, C. H. Lange, and Karl W. Boer. "Delta doping for deep-level analysis in semiconductor diodes." In Semiconductors '92, edited by David Yevick. SPIE, 1992. http://dx.doi.org/10.1117/12.60491.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
6

Sun, Yukun, Shizhao Fan, Daehwan Jung, Ryan Hool, Brian Li, Michelle Vaisman, and Minjoo Larry Lee. "Delta-doping for enhanced tunnel junction performance and thermal stability." In 2019 IEEE 46th Photovoltaic Specialists Conference (PVSC). IEEE, 2019. http://dx.doi.org/10.1109/pvsc40753.2019.8980681.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
7

Zhao, Pei, Amit Verma, Jai Verma, Huili Xing, Patrick Fay, and Debdeep Jena. "GaN heterostructure barrier diodes (HBD) with polarization-induced delta-doping." In 2013 71st Annual Device Research Conference (DRC). IEEE, 2013. http://dx.doi.org/10.1109/drc.2013.6633864.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
8

Wan, Mingfang, Xingquan Liu, Xiaoshuang Chen, Wei Lu, and Shuechu Shen. "Photoreflectance spectroscopy of Si surface delta doping on GaAs (001)." In Third International Conference on Thin Film Physics and Applications, edited by Shixun Zhou, Yongling Wang, Yi-Xin Chen, and Shuzheng Mao. SPIE, 1998. http://dx.doi.org/10.1117/12.300663.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
9

Zheng, Guozhen, Yayi Wei, Shaoling Guo, Dingyuan Tang, Zhenfu Peng, and Yunqiang Zhang. "Magnetoresistance oscillation of Si delta-doping GaAs multiple quantum well." In Thin Film Physics and Applications: Second International Conference, edited by Shixun Zhou, Yongling Wang, Yi-Xin Chen, and Shuzheng Mao. SPIE, 1994. http://dx.doi.org/10.1117/12.190803.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
10

Tribuzy, C. V. B. "Enhanced Electroabsorption in MQW Structures Containing an nipi Delta Doping Superlattice." In PHYSICS OF SEMICONDUCTORS: 27th International Conference on the Physics of Semiconductors - ICPS-27. AIP, 2005. http://dx.doi.org/10.1063/1.1994704.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
We offer discounts on all premium plans for authors whose works are included in thematic literature selections. Contact us to get a unique promo code!

To the bibliography