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Auswahl der wissenschaftlichen Literatur zum Thema „Jonction fine“
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Zeitschriftenartikel zum Thema "Jonction fine"
Silvestre, Jean-Sébastien, and Grégoire Vandecasteele. "Fréquence cardiaque." médecine/sciences 34, no. 10 (2018): 820–23. http://dx.doi.org/10.1051/medsci/2018207.
Der volle Inhalt der QuelleVanhonnaeker, Lukas. "réclamations d’actionnaires pour pertes par ricochet en arbitrage investisseur-État sous les traités d’investissement canadiens." McGill Law Journal 68, no. 4 (2023): 451–90. http://dx.doi.org/10.26443/law.v68i4.1366.
Der volle Inhalt der QuelleLupovici, Raphaël. "L’information transnationale des « Convois de la liberté » canadiens dans l’espace numérique des Gilets jaunes." Sur le journalisme, About journalism, Sobre jornalismo 12, no. 1 (2023): 178–93. http://dx.doi.org/10.25200/slj.v12.n1.2023.519.
Der volle Inhalt der QuelleAbascal, Lina, and Maxime Bisson. "Blogger, Faster, Stronger." Audimat N° 19, no. 2 (2023): 11–50. http://dx.doi.org/10.3917/audi.019.0011.
Der volle Inhalt der QuelleDissertationen zum Thema "Jonction fine"
BOUCARD, Frédéric. "Modélisation de la diffusion des dopants dans le silicium pour la réalisation de jonctions fines." Phd thesis, Université Louis Pasteur - Strasbourg I, 2003. http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00003671.
Der volle Inhalt der QuelleMinondo, Michel. "Preamorphisation du silicium par l'ion germanium et formation de jonctions ultra-fines P+/N." Grenoble INPG, 1994. http://www.theses.fr/1994INPG0140.
Der volle Inhalt der QuelleDelwail, Clara. "Etude de l'impact de la pré-amorphisation par implantation ionique pour l'optimisation des contacts siliciurés." Electronic Thesis or Diss., Aix-Marseille, 2022. http://theses.univ-amu.fr.lama.univ-amu.fr/220601_DELWAIL_838bz740xvto337mo443f_TH.pdf.
Der volle Inhalt der QuelleJEULAND, HERVE. "Modelisation electromagnetique fine d'antennes implantees sur une structure parfaitement conductrice etude de jonctions et techniques d'hybridation." Rennes, INSA, 1998. http://www.theses.fr/1998ISAR0005.
Der volle Inhalt der QuelleBoucard, Frédéric. "Modélisation de la diffusion des dopants dans le silicium pour la réalisation de jonctions fines." Université Louis Pasteur (Strasbourg) (1971-2008), 2003. http://www.theses.fr/2003STR13067.
Der volle Inhalt der QuelleDumont, Benjamin. "Etude et intégration de jonctions ultra-fines pour les technologies CMOS 45 nm et en deçà." Lyon, INSA, 2007. http://www.theses.fr/2007ISAL0035.
Der volle Inhalt der QuelleVervisch, Vanessa. "Etude et réalisation de jonctions ultra fines P+N par la technique d'implantation d'ions par immersion plasma. Application aux cellules photovoltaïques." Aix-Marseille 3, 2007. http://www.theses.fr/2007AIX30065.
Der volle Inhalt der QuelleLenoble, Damien. "Étude, réalisation et intégration de jonctions P+/N ultra-fines pour les technologies CMOS inférieures à 0,18 micromètre." Toulouse, INSA, 2000. http://www.theses.fr/2000ISAT0041.
Der volle Inhalt der QuelleBazizi, El Mehdi. "Modélisation physique et simulation de défauts étendus et diffusion des dopants dans le Si, SOI, SiGe pour les MOS avancés." Phd thesis, Université Paul Sabatier - Toulouse III, 2010. http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00509153.
Der volle Inhalt der QuelleLe, Luyer Mona. "Évolution dentaire dans les populations humaines de la fin du Pléistocène et du début de l’Holocène (19000 – 5500 cal. BP) : une approche intégrée des structures externe et interne des couronnes pour le Bassin aquitain et ses marges." Thesis, Bordeaux, 2016. http://www.theses.fr/2016BORD0003/document.
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